[发明专利]一种LPCVD系统冷阱装置有效
| 申请号: | 201710073339.8 | 申请日: | 2017-02-10 |
| 公开(公告)号: | CN106591803B | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
| 发明(设计)人: | 丁波;陈瀚;李轶;侯金松;徐伟涛;张文亮;杭海燕 | 申请(专利权)人: | 上海微世半导体有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人: | 张坚 |
| 地址: | 201401 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 lpcvd 系统 装置 | ||
1.一种LPCVD系统冷阱装置,包括套筒法兰组件和盘管法兰组件,套筒法兰组件包括筒体、设于筒体一端的出气口、设于筒体一侧的进气口,盘管法兰组件包括法兰盘,设于法兰盘上的冷却水进、出口,其特征在于:所述套筒法兰组件还包括轴向设于筒体内且一端与出气口相连通的导流管,所述盘管法兰组件还包括分别与冷却水进、出口相连通的冷却水盘管,法兰盘与筒体另一端相对接密封,所述导流管套设于所述冷却水盘管上;所述冷却水进口连通有一沿冷却水盘管整体轴向设置的进水管,冷却水进口通过进水管另一端与冷却水盘管相连通;所述冷却水盘管与进水管之间还设有冷凝机构;所述冷凝机构包括依次排列的数层漏斗状冷凝片。
2.根据权利要求1所述的LPCVD系统冷阱装置,其特征在于:所述冷却水盘管盘成整体与导流管同轴的管状结构,且与导流管之间存在间隙。
3.根据权利要求2所述的LPCVD系统冷阱装置,其特征在于:所述冷凝片上开有冷凝孔。
4.根据权利要求1所述的LPCVD系统冷阱装置,其特征在于:所述进气口与出气口分别与LPCVD系统反应室和真空泵相连通。
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





