[发明专利]涡轮分子泵有效
申请号: | 201710068005.1 | 申请日: | 2014-12-02 |
公开(公告)号: | CN106968969B | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 筒井·慎吾 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | F04D19/04 | 分类号: | F04D19/04;F04D29/58 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涡轮 分子 | ||
本发明提供一种涡轮分子泵,包括:冷却隔片(23b),配置在最下段的隔片与基座(20)之间,且具备供冷却液流通的隔片冷却管(45);加热器(42),使螺纹定子升温;温度传感器(43),检测螺纹定子的温度;以及基座冷却管(46),串联连接于隔片冷却管(45),使基座(20)冷却;且所述涡轮分子泵包括作为温度控制部的调温用控制器(51),所述调温用控制器(51)控制冷却液向串联连接的隔片冷却管(45)及基座冷却管(46)的流通与加热器(42)的通电,而将螺纹定子(24)的温度维持在规定温度。根据本发明,可同时实现大流量排气及防止产物堆积。
本申请是原申请申请号201410721317.4,申请日2014年12月02日,发明名称为“涡轮分子泵”的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种涡轮分子泵(turbo-molecular pump),其在半导体制造装置或分析装置等真空装置中以从中真空到超高真空的压力范围予以使用。
背景技术
以往,在半导体制造步骤中的干式刻蚀(dry etching)或化学气相沉积(ChemicalVapor Deposition,CVD)等制造过程(process)中,为了使制造过程高速进行而一面供给大量的气体(gas)一面进行处理。在进行这些制造过程的半导体制造装置中,对处理室(chamber)进行真空排气的真空泵通常使用包括涡轮(turbine)叶片部与螺纹槽泵部的涡轮分子泵。当在这些制造过程中使用涡轮分子泵时,根据处理气体(process gas)的种类的不同,有反应产物堆积在泵内的情况。尤其是因反应产物的压力与升华温度的关系,反应产物的堆积容易发生在压力相对较高的螺纹槽泵部。
因此,在专利文献1记载的涡轮分子泵中,通过在泵基座(pump base)设置加热器(heater)与水冷管,且控制加热器的通电及冷却水的供给,而监控螺纹定子(screwstator)等中的气体流路温度不成为设定温度以下。由此,防止反应产物的堆积。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2003-278692号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
另外,涡轮分子泵是通过转子(rotor)高速旋转而将气体排出,通常转子使用铝合金。铝产生蠕变(creep)现象的温度低于其他金属。因此,在转子高速旋转的涡轮分子泵中,须将转子温度抑制得比蠕变温度区域更低。
另一方面,若利用涡轮分子泵排出大量的气体,伴随气体的排出会产生热,而转子温度会上升。来自转子的散热主要从旋转叶片向固定叶片辐射或经由气体进行热传递。然而,当如上所述构成为控制加热器的通电与冷却水的供给而将螺纹定子等的温度维持在比设定温度更高的温度时,气体排出过程中的固定叶片的温度变得高于螺纹定子温度,因此,从旋转叶片向固定叶片的散热未能充分地进行,而转子温度容易变为高温。因而,有无法增大涡轮分子泵的排气流量的问题。
[解决问题的技术手段]
本发明的优选的实施方式的涡轮分子泵的特征在于包括:转子,形成有多段旋转叶片与圆筒部;多段固定叶片,相对于所述多段旋转叶片而交替地配置;多个隔片,通过积层而将所述多段固定叶片定位;定子,相对于所述圆筒部隔着间隙而配置;基座,固定所述定子;隔片冷却部,配置在积层的所述隔片的最下段隔片与所述基座之间,且具有供冷却液流通的第一流路;加热器,使所述定子升温;温度传感器,检测所述定子的温度;基座冷却部,形成有与所述第一流路串联连接的第二流路,使所述基座冷却;以及温度控制部,控制冷却液向串联连接的所述第一流路及所述第二流路的流通与所述加热器的通电,而将所述定子的温度维持在规定温度。
更优选的实施方式的特征在于:所述第二流路的流出部连接于所述第一流路的流入部,以使冷却液按所述第二流路、所述第一流路的顺序流通。
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