[发明专利]液晶面板及其光阻图案形成方法在审
| 申请号： | 201710064867.7 | 申请日： | 2017-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN106597732A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 龚成波 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 液晶面板 及其 图案 形成 方法 | ||
1.一种用于液晶面板上的光阻图案形成方法，其特征在于，所述方法包括：
在基板上涂布光阻材料层；
在所述光阻材料层上设置带有图案的遮挡层；
对所述遮挡层进行光照，以在所述光阻材料层上形成光阻图案；
其中，所述遮挡层上的局部位置图案的线宽大于其他位置图案的线宽。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽大于四周位置图案的线宽。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板上设有接触孔。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，基板上接触孔的直径为4um。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽比四周位置图案的线宽大0.2-1um。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽比四周位置图案的线宽大0.3-0.6um。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述遮挡层的中部位置图案的线宽比四周位置图案的线宽大0.5um。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在光阻材料层上设置带有图案的遮挡层的步骤之前还包括利用减压干燥法去除所述光阻材料层中的溶剂。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述利用减压干燥法去除所述光阻材料层中的溶剂的步骤具体为：在涂布有光阻材料层上的基板环周设置抽气干燥泵。
10.一种液晶面板，其特征在于，所述液晶面板上的光阻图案通过权利要求1-9任一项所述的方法形成。
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