[发明专利]彩膜基板偏光片、基板、显示面板及制备方法在审
申请号: | 201710064201.1 | 申请日: | 2017-02-04 |
公开(公告)号: | CN106873233A | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 刘利萍;董春垒;高欢;韩君奇;李静 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 赵天月 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 偏光 基板 显示 面板 制备 方法 | ||
1.一种彩膜基板偏光片,其特征在于,所述彩膜基板偏光片表面设置有金属挡光图案。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板偏光片,其特征在于,所述金属挡光图案为金属网格,所述金属网格包括多个行金属线以及多个列金属线,所述多个行金属线互相平行,所述多个列金属线互相平行。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板偏光片,其特征在于,所述行金属线的宽度不大于20微米;
所述列金属线的宽度不大于10微米。
4.一种彩膜基板,其特征在于,包括:
彩膜基板衬底;
彩色矩阵,所述彩色矩阵设置在所述彩膜基板衬底的表面;以及
彩膜基板偏光片,所述彩膜基板偏光片设置在所述彩膜基板衬底远离所述彩色矩阵一侧的表面,并且所述彩膜基板偏光片包括金属挡光图案;
其中,所述金属挡光图案设置在所述彩色矩阵的漏光区域。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色矩阵包括多个子像素,所述多个子像素间隔设置且呈矩阵排列,位于同一行且相邻的两个所述子像素之间的距离为-5-10微米,位于同一列且相邻的两个所述子像素之间的距离为-10-20微米。
6.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述金属挡光图案设置在所述彩膜基板偏光片远离所述彩膜基板衬底一侧的表面上。
7.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:
彩膜基板,所述彩膜基板为权利要求4-6任一项所述的;
矩阵基板,所述矩阵基板与所述彩膜基板相对设置;
液晶层,所述液晶层设置在所述彩膜基板以及所述矩阵基板之间。
8.一种制备权利要求7所述的液晶显示面板的方法,其特征在于,包括:
提供矩阵基板;
提供彩膜基板半成品,所述彩膜基板半成品包括彩膜基板衬底、彩色矩阵以及彩膜基板偏光结构,所述彩膜基板偏光结构设置在所述彩膜基板衬底远离所述彩色矩阵一侧的表面上;
将所述矩阵基板以及所述彩膜基板半成品相对设置,填充液晶分子形成液晶层并进行封框处理;
在所述彩膜基板偏光结构远离所述彩膜基板衬底一侧的表面上形成金属挡光图案,以便形成所述液晶显示面板,所述金属挡光图案与所述彩膜基板半成品的漏光区域对应设置。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述金属挡光图案是通过以下步骤实现的:
依据L0信号模拟点灯,以便在所述彩膜基板半成品的表面确定所述漏光区域;
在所述漏光区域形成所述金属挡光图案。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在,在所述漏光区域形成所述金属挡光图案是通过以下步骤实现的:
在所述彩膜基板偏光结构远离所述彩膜基板衬底一侧的表面上沉积金属层;
在所述金属层远离所述彩膜基板偏光结构一侧的表面涂覆光刻胶层;
利用所述光刻胶层,在所述漏光区域形成刻蚀模板;以及
基于所述刻蚀模板,对所述金属层进行刻蚀,以便形成所述金属挡光图案。
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