[发明专利]彩膜基板及其制造方法、显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710064133.9 申请日: 2017-02-04
公开(公告)号: CN106647005B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 秦刚;戴文君;黄仁龙 申请(专利权)人: 上海天马微电子有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 201201 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制造 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板的制造方法,其特征在于,包括:

在衬底基板的第一侧制作形成金属层以及第一对位标记,所述金属层包括触控电极层,所述第一对位标记采用不透明的金属材料制成;

其中,在衬底基板的第一侧制作形成金属层以及第一对位标记,包括:

在所述衬底基板的一侧沉积一层金属层;

对所述金属层执行一次图案化处理,在所述衬底基板上形成所述触控电极层和所述第一对位标记;

在所述衬底基板的第二侧制作形成第二对位标记,所述第二对位标记采用透明材料制成,所述第一对位标记在所述衬底基板上的垂直投影与所述第二对位标记在所述衬底基板上的垂直投影完全重叠,所述第一侧和所述第二侧为所述衬底基板相对的两侧;

其中,在所述衬底基板的第二侧制作形成第二对位标记,包括:

在所述衬底基板的第二侧沉积一层透明膜层;

利用机台确定所述第一对位标记在所述衬底基板上的垂直投影的区域,以作为目标区域,所述机台根据所述目标区域的中心点进行对位,并在完成对位后对所述透明膜层执行一次图案化处理,在所述衬底基板上所述目标区域的位置形成所述第二对位标记,并刻掉除所述第二对位标记之外的透明膜层;

在所述衬底基板的第二侧和所述第二对位标记上沉积用于形成黑色矩阵层的膜层,所述黑色矩阵层的膜层覆盖在所述第二对位标记的表面;

在所述衬底基板的第二侧包括膜层与所述第二对位标记的重叠区域,以及只有所述膜层的区域,而只有所述膜层的区域的厚度小于所述重叠区域的厚度,形成第二侧上膜层的段差,其中,所述第二对位标记的厚度大于或者等于;

利用机台检测所述衬底基板的所述第二侧上膜层的段差,并根据所述段差进行对位。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,利用机台确定所述第一对位标记在所述衬底基板上的垂直投影的区域,包括:

利用机台在所述衬底基板的第二侧上指定的坐标范围内移动,并在移动过程中采集图像,以及,根据采集到的图像确定所述第一对位标记在所述衬底基板上的垂直投影的区域。

3.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,利用机台检测所述衬底基板的第二侧上膜层的段差,并根据所述段差进行对位,包括:

利用机台在所述衬底基板的第二侧上指定的坐标范围内移动,并在移动过程中检测并记录下所述第二侧上膜层的段差,并根据检测并记录下的段差确定所述第二对位标记与所述用于形成黑色矩阵层的膜层的重叠区域的中心点;

所述机台根据所述中心点进行对位。

4.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,还包括:

对用于形成黑色矩阵的膜层执行一次图案化处理,在所述衬底基板的第二侧形成所述黑色矩阵层。

5.根据权利要求4所述的制造方法,其特征在于,还包括:在所述衬底基板的所述第二侧形成彩色色阻层。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的制造方法,其特征在于,所述衬底基板为透明基板。

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