[发明专利]竖直插入式阻挡脚及伯努利吸盘有效
申请号: | 201710062833.4 | 申请日: | 2017-01-25 |
公开(公告)号: | CN108346607B | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 刘源;林洋 | 申请(专利权)人: | 上海新昇半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/683 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 竖直 插入 阻挡 伯努利 吸盘 | ||
1.一种竖直插入式阻挡脚,其特征在于,所述竖直插入式阻挡脚包括:
支撑盘,所述支撑盘内沿其厚度方向设有通孔,所述通孔包括第一部分及位于所述第一部分下方且与所述第一部分相连通的第二部分;
阻挡脚,适于插入至所述支撑盘的所述通孔内,所述阻挡脚包括支撑部及位于所述支撑部下方且与所述支撑部的底部相连接的阻挡部;所述支撑部的宽度大于所述通孔第二部分的宽度且小于或等于所述通孔第一部分的宽度;所述阻挡部的宽度小于或等于所述通孔第二部分的宽度,且所述阻挡部沿所述支撑盘厚度方向的尺寸大于所述通孔第二部分沿所述支撑盘厚度方向的高度;所述通孔第一部分与所述通孔第二部分接触的表面为倾斜面,所述倾斜面自所述通孔第二部分的边缘至所述通孔第一部分的边缘向下倾斜。
2.根据权利要求1所述的竖直插入式阻挡脚,其特征在于:所述倾斜面相对于所述支撑盘表面的倾斜角度为5°~8°。
3.根据权利要求1所述的竖直插入式阻挡脚,其特征在于:所述阻挡部的侧面为弧形面。
4.根据权利要求3所述的竖直插入式阻挡脚,其特征在于:所述弧形面的弧度与晶圆边缘的弧度相同。
5.根据权利要求1所述的竖直插入式阻挡脚,其特征在于:所述阻挡脚还包括过渡连接部,所述过渡连接部位于所述支撑部与所述阻挡部之间,且所述阻挡部经由所述过渡连接部与所述支撑部相连接。
6.根据权利要求1所述的竖直插入式阻挡脚,其特征在于:所述支撑盘及所述阻挡脚的材料均为石英。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的竖直插入式阻挡脚,其特征在于:所述阻挡部的表面涂覆有含有结晶水的氢氧化钡涂层。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的竖直插入式阻挡脚,其特征在于:所述阻挡部的表面涂覆有硅酸钡涂层。
9.一种伯努利吸盘,包括吸附盘,所述吸附盘内设有气体管路,所述吸附盘的表面设有出气孔,所述出气孔与所述气体管路相连通,其特征在于,
所述伯努利吸盘还包括如权利要求1至8中任一项所述的竖直插入式阻挡脚,所述支撑盘固定于所述吸附盘的上表面,所述阻挡脚位于所述支撑盘的外侧,且所述阻挡部沿所述支撑盘厚度方向的尺寸大于所述通孔第二部分的深度与所述吸附盘的厚度之和。
10.根据权利要求9所述的伯努利吸盘,其特征在于:所述气体管路包括主管路及与所述主管路内部相连通的支管路;所述竖直插入式阻挡脚的数量为两个,两个所述竖直插入式阻挡脚对称地分布于所述主管路的两侧,且所述支撑盘的中心与所述吸附盘的中心的连线与所述主管路的夹角为30°~60°。
11.根据权利要求9所述的伯努利吸盘,其特征在于:所述吸附盘为石英吸附盘。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造