[发明专利]一种交替镀膜式电容器及其生产方法有效

专利信息
申请号: 201710059885.6 申请日: 2017-01-24
公开(公告)号: CN106601478B 公开(公告)日: 2018-08-21
发明(设计)人: 庞业山 申请(专利权)人: 庞业山
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33;H01G13/00
代理公司: 深圳市启明专利代理事务所(普通合伙) 44270 代理人: 何文峰
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 交替 镀膜 电容器 及其 生产 方法
【权利要求书】:

1.一种应用于交替镀膜式电容器的生产方法,其特征在于,所述交替镀膜式电容器,包括:绝缘层,所述绝缘层的内侧表面上设置有一片第一电极薄膜片,所述第一电极薄膜片的下方设有一片第二电极薄膜片;所述第一、第二电极薄膜片的数量均为两片以上,且第一电极薄膜片与第二电极薄膜片之间采用从上到下相互交替的方式排列设置;所述第一电极薄膜片与第二电极薄膜片之间填充有电介质层,且所有的第一电极薄膜片均与第一引线相连接,所有的第二电极薄膜片均与第二引线相连接;

所述方法包括:

将由片状的绝缘层材料所构成的基片放置于真空环境下,并将基片底面的后端遮挡后,放在熔化为液体状态下的金属材料的正上方进行溅射镀膜,使得在基片底面镀上第一电极薄膜片,且所述第一电极薄膜片与基片底面的前端相连接;

将镀上第一电极薄膜片的基片底面的前、后端均进行遮挡后,放在熔化为液体状态下的电介质材料的正上方进行溅射镀膜,在基片的最底面镀上电介质层;

将镀上电介质层的基片底面的前端遮挡,放在熔化为液体状态下的金属材料的正上方进行溅射镀膜,使得在基片的最底面镀上第二电极薄膜片,且所述第二电极薄膜片与基片底面的后端相连接;

对当前的镀膜次数进行统计,并判断镀膜次数是否达到预定次数,若未达到预定次数,则在镀上第二电极薄膜片的基片的最底面镀上电介质层,并在最底面的电介质层上再依次镀上第一电极薄膜片,电介质层和第二电极薄膜片;若达到预定次数,则停止镀膜,得到电容主体;

在电容主体的前端和后端分别压接上第一引线和第二引线,使得第一引线与所有第一电极薄膜片的前端相连接,第二引线与所有第二电极薄膜片的前端相连接,得到电容器。

2.根据权利要求1所述的生产方法,其特征在于,所述将由片状的绝缘层材料所构成的基片放置于真空环境下之后包括:将基片的上表面与散热设备相连接。

3.一种应用于交替镀膜式电容器的生产方法,其特征在于,所述交替镀膜式电容器,包括:绝缘层,所述绝缘层的内侧表面上设置有一片第一电极薄膜片,所述第一电极薄膜片的下方设有一片第二电极薄膜片;所述第一、第二电极薄膜片的数量均为两片以上,且第一电极薄膜片与第二电极薄膜片之间采用从上到下相互交替的方式排列设置;所述第一电极薄膜片与第二电极薄膜片之间填充有电介质层,且所有的第一电极薄膜片均与第一引线相连接,所有的第二电极薄膜片均与第二引线相连接;

所述方法包括:

将两块金属片的一端分别夹在由绝缘材料压制成电容器的外壳中,其分别作为第一引线和第二引线,所述第一引线从外壳的前端伸出,所述第二引线从外壳的后端伸出;

将安装好第一、第二引线后的外壳倒立放置于真空环境下,并在遮挡第一、第二引线后,将该外壳放在熔化为液体状态下的电介质材料的正上方进行溅射镀膜,在外壳内表面上镀上一层电介质层,使得该电介质层完整地覆盖于该内表面上;且该电介质层不与第一、第二引线相接;

将镀上电介质层的外壳倒立放置于真空环境下,并将外壳内表面的后端和第二引线进行遮挡后,放在熔化为液体状态下的金属材料的正上方进行溅射镀膜,并在电介质上面镀上第一电极薄膜片,且所述第一电极薄膜片与外壳前端的第一引线相接;

在镀上第一电极薄膜片后,对第一、第二引线进行遮挡,并在外壳内表面镀上一层电介质层,使得该电介质层覆盖于该外壳的内表面上;且该电介质层不与第一、第二引线相接;

将镀上电介质层的外壳前端和第一引线遮挡后,将该外壳的内表面放在熔化为液体状态下的金属材料的正上方进行溅射镀膜,使得在电介质层的表面镀上第二电极薄膜片,且所述第二电极薄膜片与外壳后端的第二引线相连接;

对当前的镀膜次数进行统计,并判断镀膜次数是否达到预定次数,若未达到预定次数,则在第二电极薄膜片的表面再次镀上电介质层,使得该电介质层覆盖于外壳的内表面上,并在内表面的电介质层再依次镀上第一电极薄膜片,电介质层和第二电极薄膜片;若达到预定次数,则停止镀膜,得到电容器。

4.根据权利要求3所述的生产方法,其特征在于,所述将安装好第一、第二引线后的外壳倒立放置于真空环境下之后包括:将基片的上表面与散热设备相连接。

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