[发明专利]探测方法与装置

说明书

本发明提供一种探测方法与装置。该探测方法，包括：调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像，所述待检测对象包括至少一个检测范围；根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。本发明的技术方案，通过对待检测对象的间歇照射，防止持续对待检测对象进行照射造成的辐射量大的问题。

技术领域

本发明涉及安全检测技术，尤其涉及一种探测方法与装置。

背景技术

目前，很多场所使用射线对货物进行安全检查或者对物质进行内部探伤。这主要是利用了加速器和X安检仪在不同物质上的穿透率不同，而衰减率不同来实现的。

目前X射线透射成像技术，测量的是穿过被检测对象的X光子数目，X光被吸收的几率反映了被检测物质的密度信息。透射成像技术的检测方法是通过工作人员对被检测物质形状和密度信息的解释来进行的。即现有技术是使用固定能量的X射线持续照射待检测对象体，获得待检测对象体的照射图像，由于不同的待检测对象体的X射线的穿透率不相同，根据待检测对象体的照射图像即可获得待检测对象体的材质等信息。

但是，现有技术在检测过程中使用的射线装置在最大能量下持续曝光，其对周围环境的辐射比较严重，有可能造成安全事故。

发明内容

本发明实施例提供一种探测方法与装置，用于解决现有的探测装置在辐射检测过程中射线对周围环境的辐射量大的问题。

第一方面，本发明实施例提供一种探测方法，包括：

调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；

根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，对待检测对象进行照射，获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像，所述待检测对象包括至少一个检测范围；

根据每个所述第一图像，获得所述待检测对象的目标照射图像。

在第一方面的一种可能的实现方式中，所述调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率，具体包括：

根据所述待检测对象的体积，确定所述射线的单次照射范围；

根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度，确定所述射线的照射频率。

在第一方面的另一种可能的实现方式中，所述方法还包括：

判断所述第一图像是否满足预设条件；

若否，将所述第一图像中不符合所述预设条件的部分作为新的照射范围；

根据所述预设条件调整所述射线的照射能量，获得新的照射能量；

采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围，获得新的第一图像。

在第一方面的另一种可能的实现方式中，所述预设条件包括目标阴影面积，判断所述第一图像是否满足预设条件，具体包括：

解析所述第一图像，获取所述第一图像的阴影面积；

判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。

在第一方面的另一种可能的实现方式中，探测装置为安检仪，所述调整射线的单次照射范围，具体可以包括：

调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式，确定所述射线的单次照射范围。

第二方面，本发明提供一种探测装置，包括：

调整模块，用于调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率；