[发明专利]抗静电表面保护膜的制备方法、以及抗静电表面保护膜

权利要求书

1.一种抗静电表面保护膜的制备方法，其特征在于，该抗静电表面保护膜依次经过以下工序(1)～(3)而被制备，

工序(1)：制备粘着剂组合物的工序，该粘着剂组合物含有丙烯酸类聚合物，

所述丙烯酸类聚合物为相对于100重量份的(A)的总量，仅使1～30重量份的(a1)中的至少一种、70～99重量份的(a2)中的至少一种、以及0.1～12重量份的作为可共聚单体组的(B)中的至少一种共聚而成的共聚物的丙烯酸类聚合物，其中，(A)为烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸酯单体，(a1)为烷基的碳原子数为C1～C4的(甲基)丙烯酸酯单体，(a2)为烷基的碳原子数为C5～C18的(甲基)丙烯酸酯单体，(B)为含羟基的可共聚单体，

所述丙烯酸类聚合物不含：含羧基的可共聚单体、以及不含羟基的含氮乙烯基单体，

所述粘着剂组合物进一步含有：(C)二官能度以上的异氰酸酯化合物、(D)交联促进剂、以及(E)酮-烯醇互变异构体化合物；

工序(2)：在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一面，形成使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层的工序；以及

工序(3)：使在树脂膜的一面层叠有含抗静电剂的剥离剂层的剥离膜，经由所述剥离剂层贴合于所述粘着剂层的表面后，从所述粘着剂层的表面上剥离所述剥离膜时，所述剥离剂层的所述抗静电剂的一部分被转印于所述粘着剂层的表面的工序，

所述剥离剂层由树脂组合物形成，该树脂组合物含有：以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、和抗静电剂；将所述粘着剂层贴合于已实施低反射表面处理的偏振片后，剥离时的剥离静电压为±0.6kV以下；将所述粘着剂层贴合于已实施所述低反射表面处理的偏振片后，从所述偏振片上剥离所述粘着剂层时，目测观察所述偏振片表面无污染。

2.根据权利要求1所述的抗静电表面保护膜的制备方法，其特征在于，所述粘着剂组合物中含有(F)聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯单体，(F)中，构成聚亚烷基二醇链的烯化氧的平均重复数是3～14，单体中的二酯含量为0.2％以下。

3.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制备方法，其特征在于，所述剥离剂层中的抗静电剂为碱金属盐。

4.一种抗静电表面保护膜，该抗静电表面保护膜通过在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一面，形成有使含有丙烯酸类聚合物的粘着剂组合物交联而成的粘着剂层而成，其特征在于，

所述丙烯酸类聚合物为相对于100重量份的(A)的总量，仅使1～30重量份的(a1)中的至少一种、70～99重量份的(a2)中的至少一种、以及0.1～12重量份的作为可共聚单体组的(B)中的至少一种共聚而成的共聚物的丙烯酸类聚合物，其中，(A)为烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸酯单体，(a1)为烷基的碳原子数为C1～C4的(甲基)丙烯酸酯单体，(a2)为烷基的碳原子数为C5～C18的(甲基)丙烯酸酯单体，(B)为含羟基的可共聚单体，

所述丙烯酸类聚合物不含：含羧基的可共聚单体、以及不含羟基的含氮乙烯基单体，

所述粘着剂组合物进一步含有：(C)二官能度以上的异氰酸酯化合物、(D)交联促进剂、以及(E)酮-烯醇互变异构体化合物；

在树脂膜的一面层叠有含抗静电剂的剥离剂层的剥离膜，经由所述剥离剂层贴合于所述粘着剂层的表面，所述剥离剂层的所述抗静电剂的一部分被转印于所述粘着剂层的表面；

所述剥离剂层由树脂组合物形成，该树脂组合物含有：以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物、以及抗静电剂；

将所述粘着剂层贴合于已实施低反射表面处理的偏振片后，从所述偏振片上剥离所述粘着剂层时，目测观察所述偏振片表面无污染。

5.根据权利要求4所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述粘着剂组合物中，进一步，相对于100重量份的(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸酯单体的总量，含有0～50重量份的(F)聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯单体，但是，也有不含的情况，(F)中，构成聚亚烷基二醇链的烯化氧的平均重复数为3～14，单体中的二酯含量为0.2％以下。