[发明专利]等离子体处理方法

权利要求书

1.一种在等离子体处理装置中实施的等离子体处理方法，其特征在于：

所述等离子体处理装置包括：

处理容器；

对所述处理容器内供给气体的气体供给系统；

第一电极和第二电极，以所述处理容器内的空间介于所述第一电极和所述第二电极之间的方式设置；

输出等离子体生成用的第一高频的第一高频电源；

输出离子引入用的第二高频的第二高频电源；

连接所述第一电极或所述第二电极和所述第一高频电源的第一供电线路；

连接所述第二电极和所述第二高频电源的第二供电线路；

用于对所述第一高频电源的负载阻抗进行调整的第一匹配器；

用于对所述第二高频电源的负载阻抗进行调整的第二匹配器；

对所述气体供给系统进行控制的第一组件；和

第二组件，其求取参数，该参数包括所述第一高频电源的负载阻抗、负载电阻、负载电抗和所述第一高频的反射波系数这4者中的至少1者；

该等离子体处理方法包括：

在所述处理容器内，生成第一气体的等离子体的多个第一阶段；和

与所述多个第一阶段交替实施的多个第二阶段，所述多个第二阶段在所述处理容器内生成包含与所述第一气体所包含的气体不同的气体的第二气体的等离子体，

在所述多个第一阶段的每一个中，从所述气体供给系统向所述处理容器内供给所述第一气体，从所述第一高频电源对所述第一电极或所述第二电极供给所述第一高频，

在所述多个第二阶段的每一个中，从所述多个第一阶段中本第二阶段前的第一阶段连续地从所述第一高频电源对所述第一电极或所述第二电极供给所述第一高频，

所述多个第二阶段各自包括：

为了将向所述处理容器内供给的气体从所述第一气体切换成所述第二气体，从所述第一组件对所述气体供给系统供给气体切换信号的步骤；和

在将所述气体切换信号供给至所述气体供给系统后，在所述参数超过阈值时，所述第二组件开始使所述第二高频电源向所述第二电极供给所述第二高频的步骤。

2.如权利要求1所述的等离子体处理方法，其特征在于，还包括：

所述等离子体处理装置的第三组件求取所述多个第二阶段的每一个的开始时刻与在该多个第二阶段的每一个中开始供给所述第二高频的时刻之间的时间差的步骤；和

以增加对所述多个第二阶段中在先的第二阶段求出的所述时间差之值的方式，对所述多个第二阶段中在所述在先的第二阶段之后实施的第二阶段的规定的实施时长进行调整的步骤。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理方法，其特征在于：

还包括所述第二组件使用根据参数的系列求出的移动平均值对所述阈值进行调整的步骤，

所述参数的系列由下述参数构成，所述参数包括在所述多个第二阶段中实施完的第二阶段或者该实施完的第二阶段和实施中的第二阶段的每一个中利用所述第一匹配器进行的阻抗匹配完成了的状态下的所述第一高频电源的负载阻抗、负载电阻、负载电抗和所述第一高频的反射波系数这4者中的至少1者。