[发明专利]触摸屏用高阻膜及其制备方法和触摸屏

说明书

本发明涉及一种触摸屏用高阻膜及其制备方法和触摸屏。该触摸屏用高阻膜的制备方法，包括如下步骤：提供浆料，浆料按照质量百分含量包括如下组分：10％～19％的氧化锑、7％～14％的氧化锡、25％～35％的水、25％～35％的表面活性剂和10％～20％的交联剂；采用浆料在基板上形成高阻膜。上述触摸屏用高阻膜的制备方法制备得到的高阻膜兼具较高的表面电阻值、较好的防静电效果和较好的抗干扰效果。

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，特别是涉及一种触摸屏用高阻膜及其制备方法和触摸屏。

背景技术

内嵌式(In-cell)触摸屏是触控行业的一种新型技术，它是在TFT玻璃上直接形成ITO导电膜及传感器，不仅节约了一片玻璃基板，还省略了贴合工序，降低了生产成本，且提高了产品合格率，同时还满足了智能终端超薄化需求。

其中，高阻膜的性能直接关系着内嵌式触摸屏的触摸效果，然而，目前的高阻膜要么表面电阻较小，抗干扰效果差，要么防静电效果差，从而导致内嵌式触摸屏的触摸效果较差，限制了内嵌式触摸屏的发展。

发明内容

基于此，有必要提供一种兼具较高的表面电阻值、较好的防静电效果和较好的抗干扰效果的高阻膜的制备方法。

此外，还提供一种高阻膜及触摸屏。

一种触摸屏用高阻膜的制备方法，包括如下步骤：

提供浆料，所述浆料按照质量百分含量包括如下组分：10％～19％的氧化锑、7％～14％的氧化锡、25％～35％的水、25％～35％的表面活性剂和10％～20％的交联剂，其中，所述交联剂为三烯丙基异三聚氰酸酯；

采用所述浆料在基板上形成高阻膜。

经试验测定，上述触摸屏用高阻膜的制备方法通过采用上述组分组成的浆料能够制备得到兼具较高的表面电阻值、较好的防静电效果和较好的抗干扰效果的高阻膜。

在其中一个实施例中，所述采用所述浆料在基板上形成高阻膜的步骤具体为：将所述浆料喷涂在所述基板上，再依次经流平和烘烤，形成所述高阻膜。

在其中一个实施例中，所述将所述浆料喷涂在所述基板上的步骤中，喷涂的温度为20℃～30℃；相对湿度为45％～55％。

在其中一个实施例中，所述将所述浆料喷涂在所述基板上的步骤中，喷涂时的压力为3MPa～8MPa，所述基板的传动速率为1米/分钟～1.5米/分钟；使用喷涂枪将所述浆料喷涂在所述基板上，所述喷涂枪为三个，且三个所述喷涂枪沿所述基板的传动方向依次间隔排列，相邻两个所述喷涂枪间隔25厘米～38厘米，所述喷涂枪与所述基板的间距为5厘米～50厘米。

在其中一个实施例中，所述流平的步骤具体为：将喷涂有所述浆料的所述基板进行风切，风切时的压力为3MPa～4.5MPa，温度为20℃～30℃，风切高度为5厘米～6厘米。

在其中一个实施例中，所述流平步骤后的所述烘烤步骤具体为：在60℃～200℃烘烤30分钟～60分钟。

在其中一个实施例中，在所述流平步骤之后，所述烘烤步骤之前，还包括干燥的步骤：在40℃～60℃干燥10分钟～20分钟。

上述触摸屏用高阻膜的制备方法制备得到的高阻膜。

在其中一个实施例中，所述高阻膜的厚度为20纳米～50纳米。

一种触摸屏，包括上述高阻膜。

附图说明

图1为一实施方式的触摸屏用高阻膜的制备方法的流程图。

具体实施方式