[发明专利]一种低内反射复合基材及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种低内反射的复合基材及其制造方法。

背景技术

光学元件，特别是成像用的光学元件，如光学镜头等，对光线的反射、透射有着特殊的要求，以获得更好的成像效果。

通过在透明基材，如玻璃、蓝宝石、塑料等表面进行镀膜处理，可以有效的改善基材的光学性能，如提高其透射率，减少内反射，进而提高成像质量。

现有基材普遍采用的加工工艺采是先镀膜然后再切割，切割好的基材再与其他元件进行组装。但是组装时因为其他元件四周反射杂光进入基材内造成成像质量问题，因此需要在基材四周印刷光学黑色涂料形成遮蔽层，以遮挡吸收其他元件反射的杂光。

在镀膜层上设置遮蔽层会造成镀膜结构的损坏，导致基材的内反射大幅升高，从而影响成像品质。现有增设有遮蔽层的基材，其局部内反射率最高可达6%（420nm～680nm），对成像质量有着较大的影响。

开发出一种高质量，低成本的低内反射复合基材，具有非常实际的意义。

发明内容

本发明的目的在于提供一种低内反射的基材及其制造方法。

本发明所采取的技术方案是：

一种低内反射复合基材，复合基材的四周由下自上依次为透明基材层、遮蔽层和镀膜层。

作为上述基材的进一步改进，透明基材层由玻璃、蓝宝石或塑料制成。

作为上述基材的进一步改进，遮蔽层由光学黑色材料制成。

作为上述基材的进一步改进，光学黑色材料为光学黑色油墨。

一种低内反射复合基材的制造方法，包括在基材上指定区域涂布遮蔽材料，遮蔽材料固化后形成遮蔽层之后镀膜，得到复合基材。

作为上述方法的进一步改进，涂覆高度吸收材料的方法选自印刷、喷涂、旋涂、点涂。

作为上述方法的进一步改进，镀膜的方法选自真空镀膜。

作为上述方法的进一步改进，真空镀膜包括物理气相沉积、化学气相沉积。

本发明的有益效果是：

本发明的基材，既可以实现遮蔽层对光的过滤或吸收作用，又可以保持极低的内反射，与常规的镀膜层上设置遮蔽层的基材相比，本发明基材的可以低至0.1%～0.2%（420nm～680nm）。

本发明基材的制造工艺简单，与传统的涂覆有遮蔽层的基材的制造工艺相比，工艺的复杂程度基本没有增加，生产成本基本没有增加，甚至有所降低。

附图说明

图1是本发明低内反射基材截面示意图；

图2是不同结构基材的内反射率检测结果。

具体实施方式

一种低内反射复合基材，复合基材的四周由下自上依次为透明基材层、遮蔽层和镀膜层。其截面示意图如图1所示，图1中，1为基材层，2为遮蔽层，3为镀膜层。

作为上述基材的进一步改进，透明基材层由玻璃、蓝宝石或塑料制成。基材为本领域常用的基材，最为常见的为光学玻璃。

作为上述基材的进一步改进，遮蔽层由光学黑色材料制成。

作为上述基材的进一步改进，光学黑色材料为光学黑色油墨。

一种低内反射复合基材的制造方法，包括在基材上指定区域涂布遮蔽材料，遮蔽材料固化后形成遮蔽层之后镀膜，得到复合基材。

作为上述方法的进一步改进，涂覆高度吸收材料的方法选自印刷、喷涂、旋涂、点涂。

作为上述方法的进一步改进，镀膜的方法选自真空镀膜。

作为上述方法的进一步改进，真空镀膜包括物理气相沉积、化学气相沉积。

下面结合实施例，进一步说明本发明的技术方案。

实施例1

1)在玻璃基材指定区域涂布光学黑色油墨；

2)待油墨固化后，将基材移至真空镀膜机进行镀膜处理，得到带遮蔽层的低内反射的基材。

实施例2

1)在蓝宝石玻璃基材指定区域涂布光学黑色油墨；

2)待油墨固化后，对基材进行PVD镀膜处理，得到带遮蔽层的低内反射的基材。

实施例3

1)在玻璃基材指定区域涂布光学黑色油墨；

2)待油墨固化后，对基材进行CVD镀膜处理，得到带遮蔽层的低内反射的基材。

对比例1：

先将玻璃基材置于真空镀膜机镀膜，镀膜之后在四周指定区域涂布光学黑色油墨，待油墨固化后得到处理完成的基材。

内反射检测数据：

分别取实施例1和对比例1的成品，通过反射测量仪检测基材具有遮蔽材料部分的内反射情况，检测结果如图2所示。

由检测结果可知，对比例1的基材，具有较高的内反射率，420nm～680nm的波长下，内反射率最高可达6%，波动明显，难以有效去除杂光，影响成像质量。而实施例1的基材中，内反射率在不同波长下一直维持在0.1～0.2%的低值范围内，成像质量得到大幅提升。