[发明专利]一种低内反射复合基材及其制造方法在审
| 申请号： | 201710026011.0 | 申请日： | 2017-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN106597590A | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 陈信源;何伟锋;钟涛 | 申请（专利权）人： | 广州市佳禾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B5/22;G02B5/26 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人： | 许飞 |
| 地址： | 510535 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 反射 复合 基材 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种低内反射复合基材，其特征在于：复合基材的四周由下自上依次为透明基材层、遮蔽层和镀膜层。
2.根据权利要求1所述的低内反射复合基材，其特征在于：透明基材层由玻璃、蓝宝石或塑料制成。
3.根据权利要求1所述的低内反射复合基材，其特征在于：遮蔽层由光学黑色材料制成。
4.根据权利要求4所述的低内反射复合基材，其特征在于：光学黑色材料为光学黑色油墨。
5.一种低内反射复合基材的制造方法，包括在基材上指定区域涂布遮蔽材料，遮蔽材料固化后形成遮蔽层之后镀膜，得到复合基材。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于：涂覆高度吸收材料的方法选自印刷、喷涂、旋涂、点涂。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于：镀膜的方法选自真空镀膜。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：真空镀膜包括物理气相沉积、化学气相沉积。
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