[发明专利]清洗装置及基板处理装置有效
| 申请号: | 201710025972.X | 申请日: | 2017-01-13 |
| 公开(公告)号: | CN107068590B | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
| 发明(设计)人: | 徐海洋;宫崎充 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
| 地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洗 装置 处理 | ||
1.一种清洗装置,其特征在于,具备:
清洗室,该清洗室用于清洗基板;
搬送室,该搬送室邻接于所述清洗室,用于搬送所述基板;
分隔壁,该分隔壁划分所述清洗室与所述搬送室;
流槽,该流槽固定于所述分隔壁且配置于所述搬送室;及
排出管,该排出管连接于所述流槽的底部;
在所述分隔壁形成有第一通过口及位于所述第一通过口的下方的第二通过口,
所述流槽位于所述第一通过口与所述第二通过口之间,且从所述分隔壁的一方侧端延伸至另一方侧端,
所述流槽具有堤防壁,该堤防壁从所述流槽的所述底部延伸至上方,且朝向所述分隔壁弯曲。
2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,
所述流槽的底部相对于水平方向倾斜,
所述排出管连接于所述流槽的所述底部的最低的位置,且延伸至所述第二通过口的下方。
3.一种清洗装置,其特征在于,具备:
清洗室,该清洗室用于清洗基板;
搬送室,该搬送室邻接于所述清洗室,用于搬送所述基板;
分隔壁,该分隔壁划分所述清洗室与所述搬送室;
流槽,该流槽固定于所述分隔壁;及
排出管,该排出管连接于所述流槽的底部;
在所述分隔壁形成有第一通过口及位于所述第一通过口的下方的第二通过口,
所述流槽位于所述第一通过口与所述第二通过口之间,且从所述分隔壁的一方侧端延伸至另一方侧端,
所述流槽具有堤防壁,该堤防壁从所述流槽的所述底部延伸至上方,
所述堤防壁朝向所述分隔壁弯曲,
所述分隔壁具有开口部,该开口部在所述堤防壁与所述分隔壁最接近的位置开口,
所述开口部被闭塞部件闭塞,且所述开口部位于所述闭塞部件与所述流槽之间。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗装置,其特征在于,
所述流槽连接于与所述分隔壁的一方侧端连接的一方壁以及与所述分隔壁的另一方侧端连接的另一方壁。
5.一种清洗装置,其特征在于,具备:
清洗室,该清洗室用于清洗基板;
搬送室,该搬送室邻接于所述清洗室,用于搬送所述基板;
分隔壁,该分隔壁划分所述清洗室与所述搬送室,且该分隔壁形成有第一通过口及位于所述第一通过口的下方的第二通过口;
第一流槽,该第一流槽固定于所述分隔壁且配置于所述搬送室;
排出管,该排出管的一端连接于所述第一流槽的底部;及
第二流槽,该第二流槽位于所述第二通过口的下方,
所述第一流槽位于所述第一通过口与所述第二通过口之间,且从所述分隔壁的一方侧端延伸至另一方侧端,
所述第一流槽具有堤防壁,该堤防壁从所述第一流槽的所述底部延伸至上方,且朝向所述分隔壁弯曲,
所述排出管的另一端位于所述第二流槽内。
6.一种基板处理装置,其特征在于,具备:
研磨装置,该研磨装置研磨基板;及
权利要求1至5中任一项所述的清洗装置,所述清洗装置清洗研磨后的所述基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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