[发明专利]溅射装置有效
申请号: | 201710006470.2 | 申请日: | 2017-01-05 |
公开(公告)号: | CN106939412B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 李栋熙;申相原 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;宋志强 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溅射 装置 | ||
1.一种溅射装置,包括:
第一电极和第二电极,彼此面对地配置在腔室内;
多个靶,沿第一方向彼此隔开地配置在所述第二电极的第一面上;以及
磁场生成部,位于所述第二电极的朝向与所述第一面相反的一侧的第二面上,并包括被配置为与所述多个靶中的每一个对应的多个磁铁部件,
对于所述多个磁铁部件中的每一个,所述磁铁部件在与所述第一方向交叉的第二方向上的边缘区域的磁场强度比所述磁铁部件的中心区域的磁场强度小,
所述多个磁铁部件中的每一个包括:第一区域,位于所述磁铁部件的中心;第二区域,沿所述第二方向位于所述第一区域的两侧;以及第三区域,沿所述第二方向位于所述第二区域的两侧,
所述磁铁部件的磁场强度按所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的顺序减小。
2.根据权利要求1所述的溅射装置,其中,
在所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域中分别配置有多个单位磁铁。
3.根据权利要求2所述的溅射装置,其中,
所述多个单位磁铁在与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向上的长度按所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的顺序减小。
4.根据权利要求2所述的溅射装置,其中,
所述多个单位磁铁由不同的物质构成,使得所述磁铁部件的磁场强度按所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的顺序减弱。
5.根据权利要求2所述的溅射装置,其中,
所述多个单位磁铁之间的间隔按所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的顺序增加。
6.根据权利要求2所述的溅射装置,其中,
在每单位面积中,所述多个单位磁铁所占的面积按所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的顺序减小。
7.根据权利要求2所述的溅射装置,其中,
所述多个单位磁铁的截面形成为相同的形状。
8.一种溅射装置,包括:
第一电极和第二电极,彼此面对地配置在腔室内;
多个靶,沿第一方向彼此隔开地配置在所述第二电极的第一面上;以及
磁场生成部,位于所述第二电极的朝向与所述第一面相反的一侧的第二面上,并包括被配置为与所述多个靶中的每一个对应的多个磁铁部件,
对于所述多个磁铁部件中的每一个,所述磁铁部件在与所述第一方向交叉的第二方向上的边缘区域的磁场强度比所述磁铁部件的中心区域的磁场强度小,
所述多个磁铁部件中的每一个包括:第四区域,位于所述磁铁部件的沿所述第一方向的中心;以及第五区域,沿所述第一方向位于所述第四区域的两侧,
位于所述第五区域的多个单位磁铁在与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向上的长度从所述中心沿所述第一方向逐渐减小。
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