[其他]质谱仪系统及真空歧管

说明书

本实用新型涉及一种质谱仪系统，其可包含真空歧管和高真空泵。所述真空歧管可包含前级管道腔室和高真空腔室。所述前级管道腔室可具有源入口、前级管道入口和前级管道出口。所述高真空泵可具有耦合到高真空腔室的真空端口和耦合到所述前级管道入口的前级管道端口。本实用新型还涉及一种真空歧管，该真空歧管用于质谱仪系统。借助根据本实用新型的质谱仪系统及真空歧管，可以改善用于质谱的真空系统。

技术领域

本实用新型大体上涉及质谱领域，包含真空歧管和真空系统。

背景技术

质谱大体上依赖离子的相对无碰撞移动。离子与中性气体分子碰撞可导致离子碎裂，从而减少待分析和检测的所有质量离子的数目。此外，离子与中性气体分子之间的碰撞可更改离子的轨迹和速度。如果充分更改轨迹，那么离子可偏转出离子路径且受损失，从而进一步减少待分析和检测的离子的数目。另外，质量分析器可依赖于离子的速度。通过与中性气体分子碰撞来更改离子的速度可不利地影响对离子质量的分析。

质谱仪系统通常在高真空下操作以使离子的平均自由路径最大化。然而，源可处于大气压下，且离子可用相当大的气体分子流进入系统。对质量分析器维持高真空同时允许离子行进到质量分析器中需要将离子与气体分子分离并从质谱仪系统去除气体分子。

从上文将了解，需要改进的用于质谱的真空系统。

实用新型内容

在第一方面中，一种质谱仪系统可包含真空歧管，所述真空歧管具有：前级管道腔室，其具有前级管道入口和前级管道出口；以及高真空腔室。所述质谱仪系统可进一步包含高真空泵，所述高真空泵具有：真空端口，其耦合到高真空腔室；以及前级管道端口，其耦合到所述前级管道入口。

在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含耦合到所述前级管道出口的前级管道泵。

在第一方面的各种实施例中，所述前级管道腔室可在约0.1托与约10托之间的压力下操作。

在第一方面的各种实施例中，所述高真空腔室可在约1×10^-12托与约1×10^-3托之间的压力下操作。

在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含在所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间的中间真空腔室。在特定实施例中，所述中间真空腔室可在约1×10^-4托与2×10^-1托之间的压力下操作。

在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含在所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间的两个中间真空腔室。

在第一方面的各种实施例中，所述质谱仪系统可进一步包含在所述高真空腔室内的质量分析器。

在第一方面的各种实施例中，所述真空歧管可为单片真空歧管或多组件真空歧管。

在第二方面中，一种质谱仪系统可包含真空歧管和高真空泵。所述真空歧管可包含：前级管道腔室，其具有前级管道入口和前级管道出口；高真空腔室；以及中间真空腔室，其位于所述前级管道腔室与所述高真空腔室之间。所述高真空泵可包含：主级，其耦合到所述高真空腔室；中间级，其耦合到所述中间真空腔室；以及前级管道端口，其耦合到所述前级管道腔室。来自所述高真空泵的气体可流动通过所述前级管道腔室且经由所述前级管道出口流出到前级管道泵。

在第二方面的各种实施例中，所述前级管道腔室可在约0.1托与约10托之间的压力下操作。

在第二方面的各种实施例中，所述高真空腔室可在约1×10^-12托与约1×10^-3托之间的压力下操作。

在第二方面的各种实施例中，所述中间真空腔室可在约1×10^-4托与2×10^-1托之间的压力下操作。