[发明专利]用于涂布柔性基板的沉积设备和涂布柔性基板的方法

说明书

描述一种用层堆叠结构涂布柔性基板(10)的沉积设备(100)。所述沉积设备包含：第一卷筒腔室(110)，配置用于容纳存储卷筒，所述存储卷筒用于提供柔性基板；第一沉积腔室(120)，布置在第一卷筒腔室下游并且包含第一涂布滚筒(122)，所述第一涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第一组多个沉积单元(121)；第二沉积腔室(140)，布置在第一沉积腔室(120)下游并且包含第二涂布滚筒(142)，所述第二涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第二组多个沉积单元(141)；第二卷筒腔室，布置在第二沉积腔室(140)下游并且被配置用于容纳缠绕卷筒，所述缠绕卷筒用于在沉积之后在此缠绕卷筒上缠绕柔性基板；和辊组件，配置成将柔性基板(10)沿部分凸形并且部分凹形的基板传送路径从第一卷筒腔室传送到第二卷筒腔室。此外，描述一种涂布柔性基板的方法，特别是用所描述的沉积设备涂布柔性基板的方法。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及薄膜沉积设备和方法，特别涉及用薄层堆叠结构(stack)涂布柔性基板的设备和方法，特别是在卷对卷(R2R)沉积系统中。一些实施方式涉及用层堆叠结构分别涂布柔性基板的一个或两个主表面的设备，诸如用于薄膜太阳电池生产、薄膜电池生产和柔性显示器生产。另外的实施方式涉及用于对准薄膜沉积设备的方法。

背景技术

对柔性基板(诸如，塑料膜或箔)的处理在包装工业、半导体工业和其他工业中需求很高。处理可包括用材料(诸如金属、半导体和介电材料)涂布柔性基板、蚀刻和出于个别应用对基板实施的其他处理动作。执行这一任务的系统一般包括涂布滚筒(例如，圆柱形辊)，所述涂布滚筒耦接到具有用于传送基板的辊组件的处理系统，并且在涂布滚筒上涂布基板的至少一部分。卷对卷(R2R)涂布系统可提供高产量。

因此，涂布工艺(诸如，CVD工艺或PVD工艺)，特别是溅射工艺，可用于将薄层沉积到柔性基板上。应将卷对卷沉积系统理解为，从存储卷筒对相当长长度(诸如，一千米或更长长度)的柔性基板解除卷绕，用薄层堆叠结构涂布柔性基板，并将柔性基板再次重新卷绕在缠绕卷筒上。在薄膜电池的制造中以及在显示器工业和光伏(PV)工业中，对于卷对卷沉积系统的需求也在增加。例如，触控面板元件、柔性显示器和柔性PV模块造成对在R2R涂布机中沉积合适的层的需求增加。

在一些应用中，可在柔性基板的第一主表面上沉积具有两个或更多个层的层堆叠结构。有时，可在柔性基板的与第一主表面相对的第二主表面上沉积第二层堆叠结构。当在两侧上涂布基板时，应谨慎设计和操作涂布滚筒以避免在第二主表面的涂布期间损坏基板的第一已涂布表面。

鉴于上文，提供用层堆叠结构涂布柔性基板的一个或两个主表面的沉积设备，其中所述层具有高均匀性和每单位表面积的低缺陷数量，从而克服本技术领域中的至少一些问题。

发明内容

根据上文，提供根据独立权利要求的一种用于涂布柔性基板的沉积设备、一种涂布柔性基板的方法以及一种对准沉积设备的方法。进一步的方面、优点和特征将从从属权利要求、说明书和附图中显而易见。

根据本文描述的实施方式，提供一种用于涂布柔性基板的沉积设备。所述沉积设备包括：第一卷筒腔室，配置用于容纳存储卷筒，所述存储卷筒用于提供柔性基板；第一沉积腔室，布置在第一卷筒腔室下游并且包括第一涂布滚筒，所述第一涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第一组多个沉积单元；第二沉积腔室，布置在第一沉积腔室下游并且包括第二涂布滚筒，所述第二涂布滚筒被配置用于引导柔性基板经过第二组多个沉积单元；第二卷筒腔室，布置在第二沉积腔室下游并且被配置用于容纳缠绕卷筒，所述缠绕卷筒用于在沉积之后在此缠绕卷筒上缠绕柔性基板；和辊组件，配置成将柔性基板沿部分凸形并且部分凹形的基板传送路径从第一卷筒腔室传送到第二卷筒腔室。