[发明专利]具有抗等离子体涂层的阴影掩模

说明书

一种掩模组件(100)包括：掩模框(102)及掩模屏(104)，该掩模框(102)及该掩模屏(104)两者以金属材料制成；及金属涂层(105)，该金属涂层(105)安置在该掩模框(102)及该掩模屏(104)中的一或两者的暴露面上。

背景

技术领域

本公开内容的实施方式涉及在沉积工艺中使用的的阴影掩模，诸如在制造电子设备时所使用的化学气相沉积(CVD)工艺的阴影掩模。尤其是，本公开内容的实施方式涉及用于制造有机发光二极管(OLED)显示设备时所使用的封装工艺的阴影掩模。

背景技术

OLED用于制造用于显示信息的电视屏幕、计算机监视器、移动电话、其他手持式设备等等。典型的OLED可包括位在两个电极之间的有机材料层，这些有机材料层都以形成具有可独立通电的像素的矩阵显示面板的方式沉积在基板上。OLED一般放置在两个玻璃面板之间，且玻璃面板的边缘被密封以将OLED封装在其中。

制造此种显示设备时遭遇诸多挑战。在某些制造步骤中，OLED材料被封装在一或多个层中以防止湿气损伤OLED材料。在这些工艺期间，一或多个掩模用以遮蔽不包括OLED材料的基板的数个部分。用于这些工艺的掩模必须忍受显著的温差。温度的极端值造成掩模的热膨胀与收缩，此可能导致掩模的破裂、弯曲或断裂，其中的任一者皆可能造成基板的数个部分的污染。此外，这些工艺中的一些利用可能以产生微粒的方式与掩模材料进行反应的等离子体，这些微粒可能造成基板的部分的污染。

因此，一直存在着在形成OLED显示设备时使用掩模的新的及改良的装置及处理方法的需要。

发明内容

本公开内容的实施方式提供了在制造有机发光二极管显示器时用于沉积工艺的一种掩模组件。

在一个实施方式中，提供了一种掩模组件，该掩模组件包括：掩模框及掩模屏，该掩模框及该掩模屏两者皆以金属材料制成；及金属涂层，安置在该掩模框及该掩模屏中的一或两者的暴露面上。

在另一实施方式中，提供了一种掩模组件，该掩模组件包括：掩模框及掩模屏，该掩模框及该掩模屏两者以具有低热膨胀系数的金属材料制成；氧化物涂层，安置在该掩模框及该掩模屏中的一或两者的暴露面上。

在另一实施方式中，提供了一种掩模组件，该掩模组件包括：掩模框及掩模屏，该掩模框及该掩模屏两者以具有低热膨胀系数的镍：铁合金制成；及金属涂层，安置在该掩模框及该掩模屏中的一或两者的暴露面上。

附图说明

以上简要概述的本公开内容的上述详述特征可以被详细理解的方式，以及本公开内容的更特定描述可以通过参照实施方式来获得，其中一些实施方式绘示于所附图式中。然而，应当注意的是，所附图式仅绘示此公开内容的典型实施方式，因而不应视为对本公开内容的范围的限制，因为本公开内容可允许其他等同有效的实施方式。

图1A为依据本文中所公开的实施方式的掩模组件的一个实施方式的等距分解图。

图1B为沿图1A的线1B-1B的开口的放大横截面。

图1C为图1B的开口的一部分的放大图。

图2为掩模组件的另一实施方式的平面图。

图3为沿图2的线3-3的掩模组件的一部分的横截面图。

图4为沿图2的线4-4的掩模组件的一部分的横截面图。

图5为沿图2的线5-5的掩模组件的一部分的横截面图。

图6为CVD装置的示意横截面图，其中可利用如本文中所述的掩模组件。