[发明专利]具有抗等离子体涂层的阴影掩模在审
| 申请号： | 201680085729.0 | 申请日： | 2016-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN109219897A | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 黄曦;彭飞;基兰·克里希纳布尔;瑞平·王;伊恩·杰里·陈;史蒂文·韦尔韦贝克;罗伯特·简·维瑟 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩模框 掩模 金属涂层 等离子体涂层 金属材料 掩模组件 阴影掩模 暴露 安置 | ||
1.一种掩模组件，包括：
掩模框及掩模屏，所述掩模框及所述掩模屏两者以金属材料制成；及
金属涂层，安置在所述掩模框及所述掩模屏中的一或两者的暴露面上。
2.如权利要求1所述的掩模组件，其中所述金属材料包括镍：铁合金。
3.如权利要求2所述的掩模组件，其中所述金属涂层包括镍材料。
4.如权利要求2所述的掩模组件，其中所述金属涂层包括选自铂族元素的金属。
5.如权利要求2所述的掩模组件，其中所述金属涂层选自由镍合金、钌、铑、钯及金所组成的群组。
6.如权利要求1所述的掩模组件，其中所述金属涂层包括约1微米至约35微米的厚度。
7.如权利要求1所述的掩模组件，其中所述金属材料包括具有低热膨胀系数的金属。
8.如权利要求7所述的掩模组件，其中所述金属涂层包括镍材料。
9.如权利要求7所述的掩模组件，其中所述金属涂层包括选自铂族元素的金属。
10.一种掩模组件，包括：
掩模框及掩模屏，所述掩模框及所述掩模屏两者以具有低热膨胀系数的金属材料制成；及
氧化物涂层，安置在所述掩模框及所述掩模屏中的一或两者的暴露面上。
11.如权利要求10所述的掩模组件，其中所述金属材料包括镍：铁合金。
12.如权利要求11所述的掩模组件，其中所述氧化物涂层包括氧化铝。
13.如权利要求11所述的掩模组件，其中所述氧化物涂层包括氧化钇。
14.如权利要求10所述的掩模组件，其中所述氧化物涂层包括约1微米至约5微米的厚度。
15.一种掩模组件，包括：
掩模框及掩模屏，所述掩模框及所述掩模屏两者以具有低热膨胀系数的镍：铁合金制成；及
金属涂层，安置在所述掩模框及所述掩模屏中的一或两者的暴露面上，其中所述掩模屏包括多个开口，且各开口包括锥形侧壁，所述锥形侧壁从所述掩模屏的第一侧向第二侧朝内倾斜。
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