[发明专利]激光装置

权利要求书

1.一种激光装置，其中，所述激光装置具有：

腔室，其在内部配置有1对放电电极；

气体供给装置，其向所述腔室的内部供给含有卤素气体的第1激光气体和卤素气体浓度比所述第1激光气体低的第2激光气体；

排放装置，其排放所述腔室的内部的激光气体；

压力传感器，其计测所述腔室的内部的气压；以及

控制部，其根据使用所述压力传感器计测出的气压，选择第1气体控制和第2气体控制中的一方，其中，

在所述第1气体控制中，向所述腔室的内部供给所述第1激光气体和所述第2激光气体中的至少一方，使所述第1气体控制之后的所述腔室的内部的气压比所述第1气体控制之前的所述腔室的内部的气压增高，

在所述第2气体控制中，向所述腔室的内部至少供给所述第1激光气体，并排放所述腔室的内部的一部分激光气体，使所述第2气体控制之前的所述腔室的内部的气压与所述第2气体控制之后的所述腔室的内部的气压之差小于所述第1气体控制之前的所述腔室的内部的气压与所述第1气体控制之后的所述腔室的内部的气压之差，

所述控制部对使用所述压力传感器计测出的气压与规定阈值进行比较，

在使用所述压力传感器计测出的气压小于所述规定阈值的情况下，选择所述第1气体控制，

在使用所述压力传感器计测出的气压大于所述规定阈值的情况下，选择所述第2气体控制，

所述控制部使所述规定阈值伴随所述1对放电电极的劣化而增大。

2.一种激光装置，其中，所述激光装置具有：

腔室，其在内部配置有1对放电电极；

气体供给装置，其向所述腔室的内部供给含有卤素气体的第1激光气体和卤素气体浓度比所述第1激光气体低的第2激光气体；

排放装置，其排放所述腔室的内部的激光气体；

压力传感器，其计测所述腔室的内部的气压；以及

控制部，其根据使用所述压力传感器计测出的气压，选择第1气体控制和第2气体控制中的一方，其中，

在所述第1气体控制中，向所述腔室的内部供给所述第1激光气体和所述第2激光气体中的至少一方，使所述第1气体控制之后的所述腔室的内部的气压比所述第1气体控制之前的所述腔室的内部的气压增高，

在所述第2气体控制中，向所述腔室的内部至少供给所述第1激光气体，并排放所述腔室的内部的一部分激光气体，使所述第2气体控制之前的所述腔室的内部的气压与所述第2气体控制之后的所述腔室的内部的气压之差小于所述第1气体控制之前的所述腔室的内部的气压与所述第1气体控制之后的所述腔室的内部的气压之差，

所述控制部对使用所述压力传感器计测出的气压与规定阈值进行比较，

在使用所述压力传感器计测出的气压小于所述规定阈值的情况下，选择所述第1气体控制，

在使用所述压力传感器计测出的气压大于所述规定阈值的情况下，选择所述第2气体控制，

所述控制部在每次实施所述腔室的全部气体更换时，使所述规定阈值增大。

3.根据权利要求1或2所述的激光装置，其中，

在放电次数达到规定值的情况和经过时间达到规定值的情况中的一种情况下，所述控制部进行所述第1气体控制和所述第2气体控制中的一方。

4.根据权利要求1或2所述的激光装置，其中，

所述控制部在停止了所述排放装置对激光气体的排放的状态下，进行所述第1气体控制。

5.根据权利要求1或2所述的激光装置，其中，

所述控制部在所述第2气体控制中，将通过所述气体供给装置供给的气体量与通过所述排放装置排放的气体量设为实质上相同的量。

6.根据权利要求1或2所述的激光装置，其中，

所述激光装置还具有温度传感器，该温度传感器用于计测所述腔室的内部的激光气体的温度，

所述控制部根据由所述温度传感器计测出的激光气体的计测温度，对由所述压力传感器计测出的计测气压进行校正，从而计算校正气压。