[发明专利]凸版印刷版的生成式制造的方法有效
申请号: | 201680082642.8 | 申请日: | 2016-12-19 |
公开(公告)号: | CN108700803B | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | T·特尔瑟;M·拜尔;D·弗莱舍 | 申请(专利权)人: | 富林特集团德国有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/032;G03F7/033;G03F7/12 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 彭立兵;林柏楠 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 凸版印刷 生成 制造 方法 | ||
1.一种制造凸版印刷版的方法,其包含下列步骤:
a)提供具有聚合基底层和位于所述聚合基底层上并且对步骤c)中所用的含反应性单体的液体具有阻隔作用的激光可烧蚀掩模层的载体,其中所述聚合基底层含有第一聚合粘结剂,其中所述激光可烧蚀掩模层包含至少一种第二聚合粘结剂和至少一种光吸收组分,其中所述第二聚合粘结剂可以同时是光吸收组分,
b)通过所述掩模层的依图像激光烧蚀制造具有与像素对应的开孔的掩模,
c)在掩模表面上施加含反应性单体的液体,
d)所述反应性单体经所述掩模的开孔扩散到所述聚合基底层中预定暴露时间,其中形成凸纹,
e)从所述表面除去未扩散的单体,和
f)通过交联固定所得凸纹。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于所述聚合基底层含有光引发剂。
3.根据权利要求1的方法,其特征在于所述基底层不含反应性单体或含有少于10重量%的反应性单体。
4.根据权利要求1的方法,其中在室温下所述反应性单体在第二聚合粘结剂中的扩散速率小于在第一聚合粘结剂中。
5.根据权利要求4的方法,其特征在于第二粘结剂选自聚乙烯醇、部分或高度皂化聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇缩丁醛、纤维素、硝基纤维素、聚环氧乙烷-聚乙烯醇共聚物、聚氰基丙烯酸酯和聚酰胺。
6.根据权利要求4的方法,其特征在于所述光吸收组分选自炭黑、石墨和碳纳米管。
7.根据权利要求4的方法,其特征在于所述光吸收组分选自纳米级炭黑粒子。
8.根据权利要求1的方法,其特征在于第一粘结剂选自聚(苯乙烯-丁二烯-苯乙烯)、聚(苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯)、聚(苯乙烯-丁二烯/苯乙烯-苯乙烯)嵌段共聚物、聚(苯乙烯-异戊二烯-丁二烯-苯乙烯)、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物和乙烯丙烯二烯单体橡胶。
9.根据权利要求1的方法,其特征在于所述反应性单体选自丙烯酸乙基己酯、己二醇二丙烯酸酯、十二烷二醇二丙烯酸酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸异冰片酯和甲基丙烯酸乙基己酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、十二烷二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸异冰片酯。
10.根据权利要求1的方法,其特征在于所述液体不含光引发剂。
11.根据权利要求1的方法,其特征在于根据步骤f)的凸纹交联通过暴露在UV光下发生。
12.根据权利要求1的方法,其特征在于在室温下所述反应性单体在第一聚合粘结剂中的扩散速率为至少0.5μm/分钟和最多10μm/分钟。
13.根据权利要求1的方法,其中步骤d)中的暴露时间为1分钟至60分钟。
14.根据权利要求1的方法,其特征在于形成的凸纹具有5μm至500μm的高度。
15.根据权利要求1的方法,其特征在于在根据步骤b)的掩模制造中,开孔尺寸大于要制造的凸纹元素。
16.根据权利要求1的方法,其特征在于在根据步骤b)的掩模制造中,在开孔周围的区域中,通过写入点阵提高所述掩模对所述液体的渗透率,其中在所述点阵的点处制造附加开孔。
17.根据权利要求16的方法,其中所述点阵具有至少5,000dpi的分辨率。
18.根据权利要求5的方法,其特征在于在步骤e)中用醇和水的混合物冲洗掉未扩散的单体和掩模层。
19.根据权利要求1的方法,其特征在于在步骤c)中通过浸渍、辊施加、喷涂或刮涂将所述液体施加到掩模上。
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