[发明专利]曝光装置和曝光方法

说明书

本发明的曝光装置(10)是向被载置的原盘(1)照射激光而曝光形成图案的曝光装置，具备：光学拾取器(12)，其出射激光并且能够调整激光的聚焦；控制部(19)，其使用总体表面形状数据来调整从光学拾取器(12)出射的激光的聚焦，该总体表面形状数据表示与原盘(1)的表面粗糙度、原盘(1)的倾斜度和原盘(1)的偏心中的至少一个对应的、原盘(1)的表面和光学拾取器(12)之间的相对位置关系。

技术领域

本发明涉及向原盘照射激光而使图案曝光形成的曝光装置和曝光方法。本申请主张2016年1月25日在日本进行专利申请的特愿2016-011719的优先权，并将该在先申请的全部公开内容援引于此以进行参照。

背景技术

作为微细加工技术之一，存在通过将在表面形成了微细的图案的平板状或者圆筒状(圆柱状)的原盘压到树脂片等上，从而将原盘上的微细的图案转印到树脂片等的纳米压印技术。

在专利文献1中，公开了用于在原盘的表面形成微细的图案的曝光装置。该曝光装置具备将圆筒状的原盘从两端面夹住并保持的主轴和出射激光束(激光)的光源。然后，使在表面涂布了热反应抗蚀剂或者光反应抗蚀剂的原盘旋转的同时，按照期望的图案将从光源出射的激光束向原盘照射(曝光)而使热反应抗蚀剂或者光反应抗蚀剂发生反应，由此在原盘的表面形成期望的图案。另外，该曝光装置利用受光面被分成4份的4象限检测器接收由原盘反射的激光束，根据接收结果进行激光束的聚焦控制。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-5678号公报

发明内容

技术问题

图5是表示进行聚焦控制的曝光装置的构成的一例的图。

图5所示的曝光装置100具备：主轴马达11、光学拾取器12、光传感器13、误差计算部14、减法器150、控制计算部16和放大部17。

主轴马达11被载置了圆筒状(或者圆柱状)的原盘1并且使被载置的原盘1沿圆周方向旋转。

光学拾取器12将激光向载置于主轴马达11的原盘1出射。另外，光学拾取器12被设置为能够沿原盘1的轴向滑动，通过利用主轴马达11使原盘1旋转并且使光学拾取器12沿原盘1的轴向滑动，从而能够使从光学拾取器12射出的激光照射到原盘1的表面。在原盘1的表面涂布形成有例如热反应抗蚀剂或者光反应抗蚀剂，通过向原盘1的表面照射激光，从而使在激光照射的部分的热反应抗蚀剂或者光反应抗蚀剂发生反应，能够在原盘1的表面的任意区域曝光形成图案。

光学拾取器12具备：激光源121、准直透镜122、偏振光束分光器123、物镜124、驱动器125和柱面透镜126。

激光源121输出激光。准直透镜122对从激光源121输出的激光进行平行光化，而向偏振光束分光器123输出。

偏振光束分光器123使从准直透镜122输出的激光向物镜124透过。另外，偏振光束分光器123使由原盘1反射从光学拾取器12射出的激光，而经由物镜124入射进来的反射光反射到柱面透镜126。

物镜124将透过偏振光束分光器123的激光进行集光，而向原盘1射出。驱动器125使物镜124沿着朝向原盘1的方向位移(前后移动)。通过使物镜124位移，来改变出射的激光的焦点位置。因此，光学拾取器12能够调整激光的聚焦。

柱面透镜126将由偏振光束分光器123反射的光(来自于原盘1的反射光)聚集在光传感器13的受光面上。

光传感器13是在受光面接收来自于柱面透镜126的光(来自于原盘1的反射光)并进行与接收的光对应的输出的传感器，例如，4象限PD(Photo Diode：光电二极管)。在此情况下，如图6所示，光传感器13具备分成4个区域(区域A、B、C、D)的受光面。