[发明专利]曝光装置和曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，向被载置的原盘照射激光而曝光形成图案，该曝光装置具备：

光源装置，其出射所述激光并且能够调整所述激光的聚焦；以及

控制部，其使用总体表面形状数据来调整从所述光源装置出射的激光的聚焦，所述总体表面形状数据表示与所述原盘的表面粗糙度、所述原盘的倾斜度和所述原盘的偏心中的至少一个对应的、所述原盘的表面和所述光源装置之间的相对位置关系，

所述控制部具备：

误差检测部，其进行与所述激光的聚焦误差对应的输出；

加法器，其将目标值与补偿值相加，所述目标值与所述激光在所述原盘的表面上对焦的状态下的来自所述误差检测部的输出相当，所述补偿值为根据基于所述总体表面形状数据生成的修正信号得到的补偿值；以及

控制计算部，其基于由所述加法器相加得到的值和所述误差检测部的输出之间的差值对所述激光的聚焦进行调整。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述修正信号为与所述原盘的表面的位置对应的表格或者函数。

3.一种曝光装置，其特征在于，向被载置的原盘照射激光而曝光形成图案，该曝光装置具备：

光源装置，其出射所述激光并且能够调整所述激光的聚焦；以及

控制部，其使用总体表面形状数据来调整从所述光源装置出射的激光的聚焦，所述总体表面形状数据表示与所述原盘的表面粗糙度、所述原盘的倾斜度和所述原盘的偏心中的至少一个对应的、所述原盘的表面和所述光源装置之间的相对位置关系，

所述控制部具备：

误差检测部，其进行与所述激光的聚焦误差对应的输出；

计算部，其通过针对所述误差检测部的输出进行基于所述总体表面形状数据的预定的计算处理来算出修正目标值的补偿值，该目标值与所述激光在所述原盘的表面上对焦的状态下的来自所述误差检测部的输出相当；

加法器，其将所述目标值与利用所述计算部算出的补偿值相加；以及

控制计算部，其基于由所述加法器相加得到的值和所述误差检测部的输出之间的差值对所述激光的聚焦进行调整。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述光源装置为光学拾取器，

所述总体表面形状数据由所述光学拾取器测定。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述光学拾取器具备输出与所述激光的聚焦误差对应的电压的光传感器，

所述总体表面形状数据基于所述光传感器的输出而被测定。

6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述光学拾取器具备：

物镜，其将所述激光向所述原盘出射；以及

驱动器，其使所述物镜位移，

所述总体表面形状数据基于流向所述驱动器的电流而被测定。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述总体表面形状数据利用位移计而测定。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述原盘为圆筒状或者圆柱状的原盘。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述原盘为平板状的原盘。