[发明专利]获得具有提高的周期的包含嵌段共聚物的厚有序膜的方法

权利要求书

1.使得可获得在表面上具有大于20nm的厚度且具有大于10nm的周期的包含二嵌段共聚物的组合物的有序膜的方法，且包括以下步骤：

–将包含嵌段共聚物的组合物在溶剂中混合，一旦溶剂已被蒸发掉，该组合物即在结构化温度下呈现出在10.5和40之间的χ有效*N的乘积，

–将该混合物沉积在表面上，

–在嵌段共聚物的最高Tg和它们的分解温度之间的温度下使沉积在表面上的混合物固化，使得在溶剂蒸发后组合物可使自身结构化。

2.根据权利要求1所述的方法，其中组合物包含二嵌段共聚物。

3.根据权利要求2所述的方法，其中二嵌段共聚物具有结构A-嵌段-(B-共-C)，其中嵌段A由单一单体A组成，嵌段B-共-C自身由两种单体B和C组成，C可为A。

4.根据权利要求3所述的方法，其中A和C为苯乙烯，且B为甲基丙烯酸甲酯。

5.根据权利要求1所述的方法，其中嵌段共聚物以阴离子方式合成。

6.根据权利要求1所述的方法，其中嵌段共聚物通过受控自由基聚合制备。

7.根据权利要求6所述的方法，其中嵌段共聚物通过氮氧化物介导的自由基聚合制备。

8.根据权利要求7所述的方法，其中嵌段共聚物通过N-叔丁基-1-二乙基膦酰基-2,2-二甲基丙基氮氧化物介导的自由基聚合制备。

9.根据权利要求1-8中的一项所述的方法，其中有序膜的取向垂直于表面。

10.根据权利要求1-9中的一项所述的方法获得的有序膜，其可特别地用作平版印刷领域中的掩模。

11.由根据权利要求10所述的有序膜获得的掩模。