[发明专利]有机膜组合物以及形成图案的方法

权利要求书

1.一种硬掩膜组合物，其特征在于，包括：

包含由化学式1表示的结构单元的聚合物；

由化学式2表示的添加剂；及

溶剂，

[化学式1]

在化学式1中，

A¹为自族群1及族群2的化合物中的一者衍生的二价环基且所述二价环基 的至少一个氢原子可经置换或未经置换，

B¹由化学式3表示的二价有机基团，且

*为连接点，

[族群1]

在族群1中，

M为经取代或未经取代的C1至C5亚烷基、-O-、-S-、-SO₂-或羰基，

[族群2]

在族群2中，

R⁰及R¹独立地为氢、羟基、甲氧基、乙氧基、卤素原子、含卤素的基团、经取代或未经取代的C1至C30烷基、经取代或未经取代的C6至C30芳基或其组合，

[化学式3]

在化学式3中，

a及b独立地为0至2的整数，且

L为自族群1的化合物中的一者衍生的二价环基且所述二价环基 的至少一个氢原子可经置换或未经置换，或自族群3的基团中的一者衍生的二价环基，

[族群3]

在族群3中，

X¹及X²独立地为经取代或未经取代的C6至C50亚芳基、经取代或未经取代的C1至C10含环氧烷的基团或其组合，

Y¹及Y²独立地为氢、羟基、甲氧基、乙氧基、卤素、经取代或未经取代的C6至C30芳基或其组合，其限制条件为Y¹及Y²中的至少一者为经取代或未经取代的C6至C30芳基，

Z⁷至Z¹⁰独立地为羟基、甲氧基、乙氧基、卤素、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C3至C30环烯基、经取代或未经取代的C1至C20烷胺基、经取代或未经取代的C7至C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1至C20杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基、经取代或未经取代的C1至C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7至C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1至C30卤烷基或其组合，

g、h、i及j独立地为0至2的整数，

k为1至3的整数，且

“*”为连接点，

[化学式2]

在化学式2中，

k、m以及n独立地为0或1，且k、m以及n的总和为2或3，

当k+m+n为3时，X为-CH-或氮(N)，且

当k+m+n为2时，X为直接键、-(C_qH_2q)-、-(C_tR^w_2t)-、氧(O)、硫(S)或-S(O₂)-，其中q及t独立地为1至5的整数，且R^w为经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C30芳基、经取代或未经取代的C3至C30环烯基、经取代或未经取代的C1至C20烷胺基、经取代或未经取代的C7至C20芳基烷基、经取代或未经取代的C1至C20杂烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂环烷基、经取代或未经取代的C2至C30杂芳基、经取代或未经取代的C1至C4烷基醚基、经取代或未经取代的C7至C20芳基亚烷基醚基、经取代或未经取代的C1至C30卤烷基、经取代或未经取代的C2至C20烯基或其组合，R、R'及R独立地为氢、羟基、经取代或未经取代的C3至C30单价环基、经取代或未经取代的C1至C30单价直链基团或其组合。

2.如权利要求1所述的硬掩膜组合物，其中在族群3中，X¹及X²独立地为经取代或未经取代的C6至C50亚芳基，其中所述C6至C50亚芳基为自族群4的化合物中的一者衍生的二价基团：

[族群4]