[发明专利]压印装置及方法

说明书

本发明介绍了一种压印装置及方法。本发明的压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。

技术领域

本发明涉及一种用模加压被涂覆于基板表面的树脂来转印图案的压印装置及方法。

背景技术

纳米压印光刻工程是一种既经济又能够有效地制作纳米结构物(nano-structure)的技术，是在基材(substrate)上旋涂(spin-coating)或点涂(dispensing)树脂，并将形成有图案的模压于树脂表面来转印(transfer)图案的技术。

纳米压印光刻工程大体可以分为加热式(thermal-type)和紫外线照射方式。

加热式工程被称为热转印(Hot Embossing)或热压印光刻(Thermal ImprintLithography)，是一种使模与形成有高分子层的基材接触后，加热而向高分子层提供流动性，并施加压力来在高分子层上制作出期望的图案的方法。这种加热式工程存在因热变形而难以进行多层对齐的问题，且由于为了压印粘度较大的树脂而需要较高的压力，因而存在图案易碎的问题。

为改善这种加热式工程的问题而开发的紫外线照射方式的纳米压印光刻工程是一种使用低粘度光硬化性树脂和用于硬化其的紫外线的方法，由于能够以常温低压执行工程，因而适宜进行多层化和大量生产。

以往的紫外线照射方式的纳米压印光刻工程中，若先在基板上涂覆紫外线硬化用树脂后，利用模施压，则硬化用树脂将填补模的图案之间。此时，由于粘度低，即使在较低的压力下也能用树脂容易填补模的图案之间。之后，若由UV光源通过透明的模对树脂进行感光，则树脂被硬化。之后，若摘下模，则图案之间将残留有残余层，通过氧灰化去除该残余层来完成工程。

在上述以往的紫外线照射方式的工程中，也会在模的表面涂覆自组装单分子膜来改善脱模性，但存在所需涂覆处理时间较长、产品的生产性下降的问题。

此外，在对模进行另外的涂覆处理的情况下，存在价格竞争力下降，且另外形成的涂覆层在基板与模的分离时会粘染使得模难以再使用的缺点。

进一步地，由于模的再使用性下降，需要只向一方向移送模，因而生产性下降，而树脂涂覆过程等在另外的场所或装备中进行导致无法进行连续性的工程，因而存在需要较多的作业空间，且需要较多的作业时间的问题。

作为上述背景技术所说明的事项只用于增进对本发明的背景的理解，不能理解为认同属于对本领域的一般的技术人员已公知的现有技术。

现有技术文献

专利文献1：KR 10-2012-0127731(2012.11.23)

发明内容

技术问题

本发明的目的在于提供一种改善了脱模性且能够再使用模的压印装置及方法。

技术方案

用于达成这种目的的本发明的压印装置包括：表面改性部，其对形成有图案的模的表面进行等离子处理；结合部，其以使进行了等离子处理的所述模的图案能够被冲压于基板的方式，结合所述模和所述基板；以及分离部，其分离被结合的所述模和所述基板。

所述压印装置的特征在于，所述等离子是对包括空气、氩气、氧气以及氮气中的一个以上的气体施加RF而产生的。

所述压印装置的特征在于，还包括移送部，其移送所述模，所述移送部将在所述分离部分离的所述模移送至所述表面改性部，以能够对所述模进行等离子处理而再使用所述模。