[发明专利]显示器用玻璃基板、以及显示器用玻璃基板的制造方法

权利要求书

1.一种显示器用玻璃基板，其中，

所述显示器用玻璃基板含有SiO₂以及Al₂O₃，

所述显示器用玻璃基板的Si量之比为0.9以下，所述Si量之比为从玻璃基板的与半导体元件形成面相反侧的玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的Si量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的Si量之比，并且

所述显示器用玻璃基板的Al量之比为1.0～7.4，所述Al量之比为从所述玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的Al量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的Al量之比。

2.如权利要求1所述的显示器用玻璃基板，其中，

所述显示器用玻璃基板含有B₂O₃，并且

所述显示器用玻璃基板的B量之比为0.7以下，所述B量之比为从所述玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的B量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的B量之比。

3.如权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其中，

所述显示器用玻璃基板含有MgO，并且

所述显示器用玻璃基板的Mg量之比为1.0～7.4，所述Mg量之比为从所述玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的Mg量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的Mg量之比。

4.如权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其中，

所述显示器用玻璃基板含有CaO，并且

所述显示器用玻璃基板的Ca量之比为1.0～7.4，所述Ca量之比为从所述玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的Ca量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的Ca量之比。

5.如权利要求1或2所述的显示器用玻璃基板，其中，

所述显示器用玻璃基板含有碱土金属氧化物，并且

所述显示器用玻璃基板的总量之比为1.0～7.4，所述总量之比为从所述玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的Mg、Ca、Sr以及Ba的总量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的Mg、Ca、Sr以及Ba的总量之比。

6.一种显示器用玻璃基板的制造方法，其为使用了浮法玻璃制造装置的、含有SiO₂以及Al₂O₃的显示器用玻璃基板的制造方法，所述浮法玻璃制造装置具有将玻璃原料熔化而得到熔融玻璃的熔化装置、将从所述熔化装置供给的所述熔融玻璃成形为带状从而得到玻璃带的成形装置、以及对利用所述成形装置成形后的所述玻璃带进行缓慢冷却的缓慢冷却装置，其特征在于，

通过使用设置于所述玻璃带的上方的喷射器对所述玻璃带的顶面供给含有3.0体积％以上的氟化氢(HF)的气体，从而将所述玻璃基板的Si量之比控制为0.9以下、并且将所述玻璃基板的Al量之比控制为1.0～7.4，

所述Si量之比为从玻璃基板的与半导体元件形成面相反侧的玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的Si量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的Si量之比，

所述Al量之比为从所述玻璃表面起算的深度0nm～30nm范围内的以原子％表示的Al量的平均值对从所述玻璃表面起算的深度40μm处的以原子％表示的Al量之比。

7.如权利要求6所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其中，所述喷射器设置于所述成形装置内的所述玻璃带的上方。

8.如权利要求6或7所述的显示器用玻璃基板的制造方法，其中，所述喷射器设置于所述缓慢冷却装置内的所述玻璃带的上方。