[发明专利]成像器件和电子装置

权利要求书

1.一种成像器件，其包括：

基板，包含多个单位像素的像素阵列在所述基板上，每一所述单位像素包括：

第一光电转换器，所述第一光电转换器具有形成在所述基板中的第一区域；

第二光电转换器，所述第二光电转换器具有形成在所述基板中的第二区域，其中，所述第一区域大于所述第二区域；

沟槽，所述沟槽从所述基板的第一表面延伸，其中，所述沟槽的至少一部分位于所述第一光电转换器与所述第二光电转换器之间；以及

遮光膜，其中，所述遮光膜形成在所述第二光电转换器的所述第二区域的至少一部分的上方，

其中，在2×2像素阵列的四个单位像素中的所述遮光膜具有形成在彼此不同方向上的狭缝。

2.如权利要求1所述的成像器件，

其中，所述第一区域和所述第二区域与所述基板的所述第一表面平行。

3.如权利要求1所述的成像器件，

其中，所述第一区域和所述第二区域分别与所述第一光电转换器和所述第二光电转换器的受光表面对应。

4.如权利要求1所述的成像器件，

其中，所述第一光电转换器具有比所述第二光电转换器更高的灵敏度。

5.如权利要求1至4中任一项所述的成像器件，还包括：

所述第一光电转换器与所述第二光电转换器之间的像素分隔区域，其中，所述沟槽形成在所述像素分隔区域中。

6.如权利要求1至4中任一项所述的成像器件，

其中，在所述沟槽中形成有遮光壁，并且所述遮光壁包括从所述基板的所述第一表面延伸的绝缘膜。

7.如权利要求1至4中任一项所述的成像器件，

其中，在所述沟槽中形成有遮光壁，且

其中，所述遮光壁包括负固定电荷膜、氧化膜和金属中的至少一者。

8.如权利要求1所述的成像器件，其中，所述遮光膜与所述沟槽重叠。

9.如权利要求1所述的成像器件，其中，所述遮光膜与所述第一光电转换器的一部分重叠。

10.如权利要求9所述的成像器件，还包括：

形成在所述第一光电转换器的所述第一区域上方的片上透镜，其中，在所述第二光电转换器的所述第二区域上方未形成有片上透镜。

11.如权利要求1所述的成像器件，还包括：

滤色器，其中，所述滤色器延伸跨越所述第一光电转换器的所述第一区域的至少一部分。

12.如权利要求11所述的成像器件，

其中，所述滤色器延伸跨越所述遮光膜。

13.如权利要求1所述的成像器件，

其中，所述遮光膜形成偏光器。

14.如权利要求1至4中任一项所述的成像器件，还包括：

多个遮光壁，

其中，所述第一光电转换器从第一遮光壁延伸至第二遮光壁，

其中，所述第二光电转换器从所述第二遮光壁延伸至第三遮光壁。

15.如权利要求1至4中任一项所述的成像器件，还包括：

多个第一光电转换器，其中，所述多个第一光电转换器被布置成多个行和多个列；

多个第二光电转换器，其中，所述多个第二光电转换器被布置成多个行和多个列，

其中，所述多个第一光电转换器的至少一个行的中心线不与任何所述第二光电转换器相交，其中，所述多个第二光电转换器的至少一个行的中心线不与任何所述第一光电转换器相交，且其中，相对于至少一个行的对角线与至少一个所述第一光电转换器和至少一个所述第二光电转换器相交。