[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法

说明书

本发明提供一种液晶曝光装置，液晶曝光装置(10)具备配置在投影光学系统(16)下方用以保持基板(P)的基板保持具(24)、沿XY平面使基板保持具移动的第1驱动部、测量基板保持具的位置信息的读头(68S)、支承读头并能在XY平面内移动的读头载台(64)、以及在X轴、Y轴方向移动读头载台的第2驱动部，该第2驱动部，在以第1驱动部使基板保持具往X轴或Y轴方向移动时，使读头载台往X轴或Y轴方向移动。

技术领域

本发明是关于曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法及曝光方法，进一步详言之，是关于以照明光使物体曝光的曝光装置及曝光方法、以及使用前述曝光装置的平面显示器或组件的制造方法。

背景技术

一直以来，在用以制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等电子组件(微组件)的微影制程中，是使用一边使光罩(光罩)或标线片(以下，统称为“光罩”)、与玻璃板或晶圆(以下，统称为“基板”)沿既定扫描方向(scan方向)同步移动、一边将形成在光罩的图案使用能量束转印至基板上的步进扫描(stepscan)方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称扫描机)等。

作为此种曝光装置，有一种具备使用基板载台装置所具有的棒状镜(长条镜)以求出曝光对象基板在水平面内的位置信息的光干涉仪系统者广为人知(例如，参照专利文献1)。

此处，使用光干涉仪系统求出基板的位置信息时，无法忽视空气波动的影响。另外，上述空气波动的影响，虽可藉由编码器系统的使用来降低，但因近年来的基板的大型化，欲准备一能涵盖基板的全移动范围的标尺是非常困难的。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利申请公开第2010/0266961号说明书

发明内容

本发明第1方案提供一种曝光装置，是透过投影光学系统以照明光使物体曝光，其具备：配置在该投影光学系统的下方，用以保持该物体的第1移动体；在与该投影光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1、第2方向上使该第1移动体移动的第1驱动部；测量该第1移动体的位置信息的测量部；用以支承该测量部并能在该既定平面内移动的第2移动体；以及是于该第1、第2方向上使该第2移动体移动的第2驱动部；该第2驱动部，在以该第1驱动部使该第1移动体往该第1方向或该第2方向移动时，使该第2移动体往该第1方向或该第2方向。

本发明第2方案提供一种平面显示器的制造方法，其包含：使用第1方案的曝光装置使该物体曝光的动作，以及使曝光后的该物体显影的动作。

本发明第3方案提供一种组件制造方法，其包含：使用第1方案的曝光装置使该物体曝光的动作，以及使曝光后的该物体显影的动作。

本发明第4方案提供一种曝光方法，是透过投影光学系统以照明光使物体曝光，其包含：将配置在该投影光学系统的下方、用以保持该物体的第1移动体，以第1驱动部使其在与该投影光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1、第2方向上移动的动作；以测量部测量该第1移动体的位置信息的动作；使支承该测量部、能在该既定平面内移动的第2移动体，以第2驱动部使其在该第1、第2方向上移动的动作；以及在以该第1驱动部使该第1移动体往该第1方向或该第2方向移动时，以该第2驱动部使该第2移动体往该第1方向或该第2方向移动的动作。

附图说明

图1是概略显示第1实施方式的液晶曝光装置的构成的图。

图2是图1的液晶曝光装置所具备的光罩编码器系统及基板编码器系统的概念图。

图3(A)是显示光罩编码器系统的构成的俯视图、图3(B)是显示基板编码器系统的构成的俯视图。

图4(A)是图3(A)的A部放大图、图4(B)是图3(B)的B部放大图、图4(C)是图3(B)的C部放大图。