[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法有效

专利信息
申请号: 201680059115.5 申请日: 2016-09-29
公开(公告)号: CN108139685B 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 原笃史 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/68
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 朱龙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 组件
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,所述曝光装置经由投影光学系统利用照明光使物体曝光,其中,所述曝光装置具备:

第1移动体,所述第1移动体配置在所述投影光学系统的下方并保持所述物体;

第1驱动部,所述第1驱动部在与所述投影光学系统的光轴正交的既定平面内彼此正交的第1方向、第2方向上使所述第1移动体移动;

测量部,所述测量部测量所述第1移动体的位置信息;

第2移动体,所述第2移动体支承所述测量部并能够在所述既定平面内移动;以及

第2驱动部,所述第2驱动部在所述第1方向、第2方向上使所述第2移动体移动,

所述第2驱动部在利用所述第1驱动部使所述第1移动体向所述第1方向或所述第2方向移动时,使所述第2移动体向所述第1方向或所述第2方向移动。

2.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,

所述测量部具备:

第1格子构件,所述第1格子构件具有在所述第1方向彼此分离配置的多个格子区域;

多个第1读头,所述多个第1读头对所述第1格子构件分别照射测量光束,且能够在所述既定平面内移动;以及

测量装置,所述测量装置测量在所述第2方向的所述多个第1读头的位置信息,

所述多个第1读头设于所述第2移动体,且以所述第1格子构件与所述第2移动体相向的方式设置,根据所述测量光束照射于所述多个格子区域中的至少1个的所述多个第1读头的测量信息和所述测量装置的测量信息,测量所述移动体的位置信息。

3.根据权利要求2所述的曝光装置,其中,

所述测量装置具有检测设在所述第1移动体的被检测部的检测部,

所述第2驱动部根据被第2移动体支承的所述检测部对所述被检测部的检测结果,使所述第2移动体移动。

4.根据权利要求3所述的曝光装置,其中,

所述被检测部是具有格子区域的第2格子构件,

所述检测部是对所述第2格子构件照射测量光束的第2读头,将所述测量光束照射于所述第2格子构件的所述第2读头的测量信息作为所述检测结果。

5.根据权利要求4所述的曝光装置,其中,

所述第2格子构件在所述第1方向上的长度比所述第1格子构件短。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的曝光装置,其中,

所述测量装置测量在所述第2方向的所述多个读头的位置信息,

所述测量部具备:具有在所述第2方向彼此分离配置的多个格子区域的第3格子构件、以及对所述第3格子构件分别照射测量光束且能够在所述既定平面内移动的多个第3读头,根据所述测量光束照射于所述多个格子区域中的至少1个的所述多个第3读头的测量信息和所述测量装置的测量信息,测量所述移动体的位置信息。

7.根据权利要求6所述的曝光装置,其中,

所述曝光装置具备支承所述投影光学系统的框架构件,

所述第1格子构件及第3格子构件中的一方的格子构件设于所述框架构件。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置,其中,

所述曝光装置具备形成装置,所述形成装置具有保持既定图案的图案保持体和将所述图案保持体向所述第1方向驱动的第3驱动部,并使用能量束经由所述图案保持体在所述物体上形成所述图案。

9.根据权利要求8所述的曝光装置,其中,

所述物体是用于平面显示器的基板。

10.根据权利要求9所述的曝光装置,其中,

所述基板的至少一边的长度或对角长为500mm以上。

11.一种平面显示器的制造方法,其中,所述平面显示器的制造方法包括如下动作:

使用权利要求9或10所述的曝光装置使所述物体曝光;以及

使曝光后的所述物体显影。

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