[发明专利]移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法

说明书

本发明的用以求出能在与XY平面平行的方向移动的基板保持具(36)于Z轴方向的位置信息的测量系统，具备：与基板保持具(36)对向设置能于Y轴方向与基板保持具(36)同步移动的Y滑件(76)、设在Y滑件(76)的传感器头(78)、以及控制Y滑件(76)并使用设在基板保持具(36)的延伸于X轴方向的靶(38)藉由传感器头(78)求出基板保持具(36)于Z轴方向的位置信息的控制系。

技术领域

本发明关于移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及测量方法。

背景技术

一直以来，在用以制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路等)等电子组件(微组件)的微影制程中，使用一边使光罩或标线片(以下，统称为「光罩」)、与玻璃板或晶圆等(以下，统称为「基板」)沿既定扫描方向同步移动、一边将形成在光罩的图案使用能量束转印至基板上的步进扫描(stepscan)方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称扫描机)等(例如，参照专利文献1)。

于此种曝光装置，为了将形成在光罩的图案以高分辨率成像在基板上，测量基板的表面位置(例如，基板表面在与水平面交叉的方向的位置信息)并进行使该基板的表面位置自动地位于投影光学系的焦深内的自动对焦控制。

此时，为确实地进行自动对焦控制，最好是能以高精度测量基板的表面位置。

在先技术文献

专利文献

[专利文献1]美国专利申请公开第2010/0266961号说明书

发明内容

本发明第1方式提供一种移动体装置，具备：第1移动体，保持物体，可往第1方向移动；第2移动体，对向于该第1移动体设置，能往该第1方向移动；以及测量部，具有设在该第1及第2移动体中之一移动体的测量系、与设在另一移动体的被测量系，该测量系对该被测量系照射测量光束以测量该第1移动体于上下方向之位置；该测量部，相对往该第1方向移动的该第1移动体，以对向于该第1移动体的方式使该第2移动体往该第1方向移动，进行测量。

本发明第2方式提供一种移动体装置，其具备：第1移动体，保持物体，可往第1方向移动；第2移动体，对向于该第1移动体设置，可往该第1方向移动；以及测量部，具有设在该第1及第2移动体中之一移动体的测量系、与设在另一移动体的被测量系，该测量系对该被测量系照射测量光束以测量该第1移动体于上下方向之位置。

本发明第3方式提供一种曝光装置，其具备第1方式的移动体装置及第2方式的移动体装置中之任一种、以及对该第1移动体所保持的物体使用能量束形成既定图案的图案形成装置。

本发明第4方式提供一种平面显示器的制造方法，其包含：使用第3方式的曝光装置使该物体曝光的动作；以及使曝光后的该物体显影的动作。

本发明第5方式提供一种组件制造方法，其包含：使用第3方式的曝光装置使该物体曝光的动作；以及使曝光后的该物体显影的动作。

本发明第6方式提供一种测量方法，包含：对设在保持物体可往第1方向移动的第1移动体与和该第1移动体对向设置可往该第1方向移动的第2移动体中之一方的被测量系，从设在该第1移动体与该第2移动体中之另一方的测量系照射测量光束，以测量该第1移动体于上下方向之位置的动作；于该测量动作，以和往该第1方向移动的该第1移动体对向的方式，该第2移动体相对该第1移动体往该第1方向移动，进行该测量。

附图说明

图1是概略显示第1实施方式的液晶曝光装置的构成的图。

图2是图1的A－A线剖面图。

图3是图1的液晶曝光装置所具备的基板载台Z倾斜位置测量系的概念图。

图4是显示以液晶曝光装置的控制系为中心构成的主控制装置的输出入关系的方块图。