[发明专利]移动体装置、曝光装置、平面显示器的制造方法、及组件制造方法有效
申请号: | 201680057153.7 | 申请日: | 2016-09-28 |
公开(公告)号: | CN108139676B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 青木保夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 张宝荣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 移动 装置 曝光 平面 显示器 制造 方法 组件 | ||
1.一种移动体装置,具备:
第1移动体,其保持物体,可向第1方向移动;
基准构件,其作为所述第1移动体的移动的基准;
第2移动体,其在上下方向上配置在所述第1移动体与所述基准构件之间,并且与所述第1移动体对置设置,能向所述第1方向移动;
第1测量系,其求出所述第2移动体相对于所述基准构件在所述第1方向上的位置信息;以及
第2测量系,其具有设在所述第1移动体及所述第2移动体中的一个移动体上的编码器读头、与设在所述第1移动体及所述第2移动体中的另一个移动体上的绕射光栅,所述编码器读头对所述绕射光栅照射测量光束,以测量所述第1移动体相对于所述第2移动体在所述第1方向上的位置,与根据所述测量光束的来自所述绕射光栅的返回光,测量所述第1移动体在所述上下方向上的位置;
所述移动体装置根据所述第1测量系及所述第2测量系的输出,求出所述第1移动体在2维平面内的位置信息;
所述第2测量系以下述方式进行测量,即相对于向所述第1方向移动的所述第1移动体,以与所述第1移动体对置的方式使所述第2移动体向所述第1方向移动;
所述第1测量系以下述方式进行测量,即相对于所述基准构件,以与所述基准构件对置的方式使所述第2移动体向所述第1方向移动。
2.如权利要求1所述的移动体装置,其中,所述第2移动体以所述测量光束不会从所述绕射光栅脱离的方式,相对于所述第1移动体向所述第1方向移动。
3.如权利要求1或2所述的移动体装置,其中,所述编码器读头设于所述第2移动体;
所述第2测量系补偿因设于所述第2移动体的所述编码器读头向所述第1方向的驱动而产生的所述第1方向的测量误差,以测量所述第1移动体在所述第1方向上的位置。
4.如权利要求1或2所述的移动体装置,其中,所述绕射光栅具有能测量所述第1移动体在与所述第1方向交叉的第2方向上的可移动范围的长度。
5.如权利要求4所述的移动体装置,其中,所述第1移动体以所述测量光束不会从所述绕射光栅脱离的方式向所述第2方向移动。
6.如权利要求4所述的移动体装置,其中,在所述第1移动体向所述第2方向移动时,所述第2测量系在不改变所述第2移动体在所述第2方向上的位置的情形下进行测量。
7.如权利要求4所述的移动体装置,其中,所述编码器读头设有多个;
多个所述编码器读头对所述绕射光栅的测量点在所述第2方向上位置互异。
8.如权利要求1或2所述的移动体装置,其进一步具备以非接触方式支承所述物体的支承部;
所述第1移动体保持由所述支承部非接触支承的所述物体。
9.一种曝光装置,其具备:
权利要求1至8中任一项所述的移动体装置;以及
对所述第1移动体所保持的物体使用能量束形成既定图案的图案形成装置。
10.如权利要求9所述的曝光装置,其中,所述物体是用于平面显示器的基板。
11.如权利要求10所述的曝光装置,其中,所述基板的至少一边的长度或对角长为500mm以上。
12.一种平面显示器的制造方法,其包含:
使用权利要求9至11中任一项所述的曝光装置使所述物体曝光的步骤;以及
使曝光后的所述物体显影的步骤。
13.一种组件制造方法,其包含:
使用权利要求9至11中任一项所述的曝光装置使所述物体曝光的步骤;以及
使曝光后的所述物体显影的步骤。
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