[发明专利]使用多射束工具的反向散射电子(BSE)成像

权利要求书

1.一种电子射束检验系统，其包括：

电子源；

小射束控制机构，其经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束，所述小射束控制机构进一步经配置以在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者；及

检测器，其经配置以至少部分基于反向散射出所述目标的电子而产生所述目标的图像，

其中所述检测器进一步经配置以针对在两个或多于两个时刻朝向所述目标所递送的两个或多于两个小射束接收反向散射出所述目标的电子，其中所述检测器进一步经配置以至少部分基于所接收的反向散射出所述目标的所述电子的总和而产生所述目标的所述图像。

2.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其中所述小射束控制机构包括可相对于多射束孔阵列移动的单孔板，其中利用所述单孔板与界定于所述多射束孔阵列上的孔阵列中的一者的对准来朝向所述目标递送所述多个小射束中的一者。

3.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其中所述小射束控制机构包括消隐装置阵列，其经界定以对应于界定于多射束孔阵列上的孔阵列，其中利用所述消隐装置阵列的选择性接合及分离来朝向所述目标递送所述多个小射束中的一者。

4.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其中所述小射束控制机构包括多射束孔阵列，其中消隐装置并入界定于所述多射束孔阵列上的每一孔内。

5.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其中所述目标的所述图像包含所述目标的反向散射电子BSE图像。

6.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其进一步包括：

能量过滤器，其经配置以选择性地阻止所述检测器接收在所述多个小射束中的一者被递送到所述目标时所产生的次级电子。

7.根据权利要求6所述的电子射束检验系统，其中所述能量过滤器经配置以阻止除最高能量反向散射电子之外的所有反向散射电子到达所述检测器。

8.根据权利要求6所述的电子射束检验系统，其中所述能量过滤器包含能量过滤器阵列。

9.根据权利要求6所述的电子射束检验系统，其中所述能量过滤器包含大面积全局能量过滤器。

10.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其中所述检测器包含对应于所述多个小射束的检测器阵列。

11.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其进一步包括：

至少一个透镜，其定位于所述电子源与所述小射束控制机构之间，所述至少一个透镜经配置以使由所述电子源提供的所述电子聚焦到所述小射束控制机构上。

12.根据权利要求1所述的电子射束检验系统，其进一步包括：

至少一个偏转器或透镜，其经配置以将所述多个小射束中的一或多者会聚到所述目标上的单点。

13.一种电子射束检验系统，其包括：

电子源；

小射束控制机构，其经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束，所述小射束控制机构进一步经配置以在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者；及

检测器阵列，其对应于所述多个小射束，所述检测器阵列经配置以至少部分基于反向散射出所述目标的电子而产生所述目标的图像，

其中所述检测器阵列进一步经配置以针对在两个或多于两个时刻朝向所述目标所递送的两个或多于两个小射束接收反向散射出所述目标的电子，其中所述检测器阵列进一步经配置以至少部分基于所接收的反向散射出所述目标的所述电子的总和而产生所述目标的所述图像。