[发明专利]制造光学装置的方法

权利要求书

1.一种制造光学装置的方法，包括：

在下基础膜上形成柱形状的图案化模层；

在所述图案化模层上形成下电极层；

通过向所述下电极层赋予绝缘性质来制备下基底；以及

在所述下基底上层合包括上电极层和上基础膜的上基底，

其中向所述下电极层赋予绝缘性质通过除去所述图案化模层中的所述柱形状的侧表面部的所述下电极层的过程来进行，

其中层合所述上基底通过层合所述上电极层以接触所述图案化模层中的所述柱形状的顶表面部的所述下电极层来进行。

2.根据权利要求1所述的制造光学装置的方法，其中所述图案化模层包含可固化树脂。

3.根据权利要求1所述的制造光学装置的方法，其中通过压印过程使所述图案化模层图案化成所述柱形状。

4.根据权利要求1所述的制造光学装置的方法，其中相对于所述柱形状的厚度，所述图案化模层中不存在所述柱形状的区域的厚度在大于0％至小于50％的范围内。

5.根据权利要求1所述的制造光学装置的方法，其中所述下电极层或所述上电极层为透明电极层。

6.根据权利要求1所述的制造光学装置的方法，其中除去所述图案化模层中的所述柱形状的侧表面部的所述下电极层的过程通过湿法蚀刻过程来进行。

7.根据权利要求1所述的制造光学装置的方法，还包括形成在层合所述上基底之后位于所述上基底与所述下基底之间的包括光调制层或发光层的中间层。

8.一种光学装置，包括：

下基底，所述下基底包括下基础膜；在所述下基础膜上的具有柱形状的图案化模层和形成在所述图案化模层上的下电极层；以及

层合在所述下基底上且包括上电极层和上基础膜的上基底，

其中所述下电极层和所述上电极层以电绝缘状态存在，

其中所述光学装置以其中所述图案化模层中的所述柱形状的侧表面部的所述下电极层被除去的状态存在，

其中所述上电极层接触所述图案化模层中的所述柱形状的顶表面部的所述下电极层。

9.根据权利要求8所述的光学装置，

还包括存在于所述上基底与所述下基底之间的包括光调制层或发光层的中间层。

10.一种显示装置，包括根据权利要求8所述的光学装置。