[发明专利]极紫外光源中的目标扩展速率控制

说明书

一种方法，包括：提供目标材料，目标材料包括在被转换为等离子体时发射极紫外(EUV)光的成分；朝向目标材料引导第一辐射束以向目标材料传递能量以修改目标材料的几何分布以形成经修改的目标；朝向经修改的目标引导第二辐射束，第二辐射束将经修改的目标的至少一部分转换为发射EUV光的等离子体；测量相对于第一辐射束的与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性；以及基于测量的一个或多个特性来将从第一辐射束向目标材料传递的辐射曝光量控制在预定能量范围内。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年8月12日提交的题为“TARGET EXPANSION RATE CONTROL INAN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE”的美国序列号14/824,141以及于2015年8月12日提交的题为“STABILIZING EUV LIGHT POWER IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHTSOURCE”的美国序列号14/824,147的权益，这两者通过引用并入本文。

技术领域

所公开的主题涉及控制用于激光产生等离子体极紫外光源的目标材料的扩展速率。

背景技术

在光刻工艺中可以使用极紫外(EUV)光(例如，具有大约50nm或更小的波长的电磁辐射(有时也称为软x射线)，并且包括波长大约为13nm的光)，以在衬底(例如硅晶片)中产生非常小的特征。

产生EUV光的方法包括但不一定限于使用处于等离子态的EUV范围中的发射谱线对具有例如氙、锂或锡等元素的材料进行转换。在通常称为激光产生等离子体(“LPP”)的一种这样的方法中，所需要的等离子体可以通过使用放大的光束照射目标材料(例如，以材料的液滴、板、带、流或簇的形式)来产生，放大的光束可以被称为驱动激光器。对于这个过程，等离子体通常在密封容器(例如，真空室)中产生，并且使用各种类型的计量设备来监测。

发明内容

在一些总体方面，一种方法包括：提供目标材料，目标材料包括在被转换为等离子体时发射极紫外(EUV)光的成分；朝向目标材料引导第一辐射束以向目标材料传递能量以修改目标材料的几何分布以形成经修改的目标；朝向经修改的目标引导第二辐射束，第二辐射束将经修改的目标的至少一部分转换为发射EUV光的等离子体；测量相对于第一辐射束的与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性；以及基于所测量的一个或多个特性将从第一辐射束向目标材料传递的辐射曝光量控制在预定的能量范围内。

实现可以包括以下特征中的一个或多个。例如，可以通过测量第一辐射束的能量来测量与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性。可以通过测量从目标材料的光学反射表面反射的第一辐射束的能量来测量第一辐射束的能量。可以通过测量朝向目标材料被引导的第一辐射束的能量来测量第一辐射束的能量。可以通过测量在垂直于第一辐射束的传播方向的方向上的空间积分能量来测量第一辐射束的能量。

可以通过使目标材料与第一辐射束的包围其共焦参数的区域交叠来朝向目标材料引导第一辐射束。共焦参数可以大于1.5mm。

可以通过测量目标材料相对于目标位置的位置来测量与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性。目标位置可以与第一辐射束的束腰重合。第一辐射束可以沿着第一光束轴线被引导，并且目标材料的位置可以沿着与第一光束轴线平行的方向来测量。目标位置可以相对于收集所发射的EUV光的收集器设备的主焦点来测量。目标材料的位置可以通过沿着两个或更多个非平行方向测量目标材料的位置来测量。

可以通过在第二辐射束将经修改的目标的至少一部分转换为等离子体之前检测经修改的目标的尺寸来测量与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性。可以通过估计经修改的目标的扩展速率来测量与目标材料和经修改的目标中的一个或多个相关联的一个或多个特性。