[发明专利]金属掩模基材、金属掩模、以及金属掩模的制造方法

权利要求书

1.一种金属掩模基材，其中，

具备以供抗蚀剂配置的方式构成的金属制的表面，

上述表面的三维表面粗糙度Sa为0.11μm以下，

上述表面的三维表面粗糙度Sz为3.17μm以下。

2.如权利要求1所述的金属掩模基材，其中，

上述表面为第1面，

上述抗蚀剂为第1抗蚀剂，

上述金属掩模基材还具备与上述第1面相反的一侧的面、即以供第2抗蚀剂配置的方式构成的金属制的第2面，

上述第2面的三维表面粗糙度Sa为0.11μm以下，

上述第2面的三维表面粗糙度Sz为3.17μm以下。

3.如权利要求1或2所述的金属掩模基材，其中，

上述表面为因瓦合金制。

4.如权利要求1至3中任一项所述的金属掩模基材，其中，

具备由因瓦合金形成的金属层，

上述表面为上述金属层的表面，

上述金属掩模基材还具备与上述金属层的和上述表面相反的一侧的面对置的聚酰亚胺层。

5.如权利要求1至4中任一项所述的金属掩模基材，其中，

上述抗蚀剂为干膜抗蚀剂，

上述表面以粘附上述干膜抗蚀剂的方式构成。

6.一种金属掩模，具备具有金属制的表面的金属掩模基体，其中，

上述金属掩模基体具备沿上述金属掩模基体的厚度方向贯通上述金属掩模基体、并且在上述表面具有开口的多个贯通孔，

将与上述表面对置的俯视中的上述开口的尺寸的平均值设为A，将上述尺寸的标准偏差乘以3而得到的值设为B时，(B/A)×100(％)为10％以下。

7.一种金属掩模的制造方法，其中，包括如下工序：

准备金属掩模基材，该金属掩模基材具备以供抗蚀剂配置的方式构成的金属制的表面，上述表面的三维表面粗糙度Sa为0.11μm以下，上述表面的三维表面粗糙度Sz为3.17μm以下；

在上述表面上配置抗蚀剂；

在上述抗蚀剂中形成贯通孔，上述贯通孔用于在上述金属掩模基材上形成沿上述金属掩模基材的厚度方向凹陷并且在上述表面具有开口的多个凹部；以及

经由上述抗蚀剂，在上述金属掩模基材上形成多个上述凹部，

在上述金属掩模基材形成多个上述凹部时，以如下方式在上述金属掩模基材形成多个上述凹部：将与上述表面对置的俯视中的上述开口的尺寸的平均值设为A，将上述尺寸的标准偏差乘以3而得到的值设为B时，(B/A)×100(％)为10％以下。