[发明专利]导电性高分子用隐形蚀刻墨液和导电性高分子的图案化方法

说明书

技术领域

本发明涉及导电性高分子用隐形蚀刻墨液和使用该墨液的导电性高分子的图案化方法。

背景技术

现在，作为透明导电膜，主要使用含有铟的ITO(氧化铟锡)，但铟是稀有元素，因此研究ITO的替代材料，导电性高分子有希望作为ITO的代替材料。

导电性高分子具有导电性、光的透射性、发光性、成膜后也呈挠性的特征，期待在透明导电膜、电解电容器、防静电剂、电池和有机EL元件等中的应用。

如上所述，导电性高分子对于电子产业而言，是一种有益的材料，特别期待作为触摸面板、触摸开关的传感部的透明性材料。因此，将导电性高分子蚀刻而将导电性高分子膜图案化的方法成为在使用导电性高分子时重要的技术。

民生用途的触摸面板中电阻膜式和静电电容式是主流，根据检测方式被进一步细分。需要在数字型的电阻膜式触摸面板和投影型的静电电容式触摸面板上形成检测用的电极图案。由于包含ITO的透明导电材料不是完全的无色，所以在画面上可以看到形成的图案，影响图像的色调。

因此，关于导电性高分子膜所使用的PEDOT(3,4－乙烯二氧噻吩)/PSS(聚苯乙烯磺酸)膜等，也要求蚀刻后的部分维持蚀刻前的色调。例如在为PEDOT/PSS膜时为淡蓝色，但如果蚀刻后的部分也能够维持膜的原始的色调，则具有即使搭载于静电电容式触摸面板，在画面上也看不到图案的优点。

作为蚀刻导电性高分子膜的方法，例如为了在导电性聚合物上制造电极图案，公开了如下方法：在将含有10～5000mg/m²的导电性聚合物的层适用在支撑体上而制成导电性层后，使用含有ClO^–、BrO^–等氧化剂的印刷溶液而在上述层上印刷电极图案的方法(专利文献1)。

另外，公开了使用包含导电性高分子用蚀刻剂、增粘剂和水系介质的导电性高分子蚀刻用墨液，将导电性高分子图案化的方法(专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001－35276号公报

专利文献2：国际公开号2011－125603号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在专利文献1所记载的方法中，由于所蚀刻的部分的导电性高分子被过度分解，所以由于图案化，从淡蓝色的着色状态变成无色。

另外，如果使用例示的二氧化硅、高分子增粘剂，则存在与蚀刻成分反应、引起粘度的经时变化的问题。

另一方面，在专利文献2所记载的蚀刻墨液中，由于所蚀刻的部分的导电性高分子被过度分解，所以由于图案化，从淡蓝色的着色状态变成无色。

另外，由于增粘剂使用球状的二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒，所以墨液粘度的经时变化大，而且进行印刷，立刻干燥，这些颗粒会飞散，因此超净室内的粒子浓度上升。另外，由于在印刷中进行干燥而丝网版的网眼、喷嘴堵塞，所以连续处理性差。而且，由于墨液的清洁性差，所以这些颗粒残留在膜上，成为使光学特性变差的原因。

鉴于上述情况，本发明的目的在于提供一种隐形蚀刻墨液以及使用了该隐形蚀刻墨液的导电性高分子的图案化方法，该隐形蚀刻墨液在蚀刻导电性高分子膜时，不仅耐干燥性和清洁性优异，而且所蚀刻的部分的导电性高分子的过度分解被抑制，在蚀刻一部分膜的情况下，膜的原始的色调被维持。

用于解决课题的方法

本发明的发明人为了解决上述课题，而深入进行了研究，结果发现：通过添加作为高分子电解质的聚丙烯酸或其盐，由于墨液的保水力变高，所以不易干燥；聚丙烯酸或其盐作为清洁剂发挥作用，提高清洁性；以及通过并用无机颗粒和聚丙烯酸，赋予适于印刷的粘度特性；进而通过将墨液的pH设在特定范围，可以抑制导电性膜的分解，从而完成了作为在耐干燥性、清洁性、印刷特性以及隐形性方面优异的导电性高分子用隐形蚀刻墨液的本发明，该墨液为包含导电性高分子蚀刻剂、无机颗粒、聚丙烯酸或其盐以及水系介质且pH被调整为3～7的墨液。

即，本发明涉及的第一方式为一种导电性高分子用隐形蚀刻墨液，其包含导电性高分子用蚀刻剂(A)、无机颗粒(B)、聚丙烯酸或其盐(C)和水系介质(D)，该导电性高分子用隐形蚀刻墨液的pH被调整为3～7。

此外，在上述第一方式中，包括将作为导电性高分子用隐形蚀刻墨液的构成成分的上述(A)～(C)限定为特定的优选化合物的实施方式、以及除了(A)～(D)成分以外还包含阴离子交换体(E)的实施方式等。