[发明专利]含氮杂环化合物的制造方法及其中间体有效

专利信息
申请号: 201680041023.4 申请日: 2016-07-14
公开(公告)号: CN107848987B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 长远裕介;水本真介;村上达也;田中智之 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C07D239/48 分类号: C07D239/48;A61K31/505;A61P43/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 杂环化合物 制造 方法 及其 中间体
【权利要求书】:

1.一种通式[5]所示的化合物或者其盐的制造方法,

式中,R1表示任选被取代的C1-6烷基,该方法包括:

使通式[1]所示的化合物或者其盐与通式[2]所示的化合物或者其盐或者六亚甲基四胺反应,制造通式[3]所示的化合物或者其盐之后,根据需要,对得到的化合物或者其盐实施脱保护反应或者水解反应的工序,

式中,R1表示任选被取代的C1-6烷基;X1表示氯原子,

式中,R2表示氢原子或者氨基保护基;R3表示氢原子或者氨基保护基,或者R2及R3成为一体而表示任选被取代的邻苯二甲酰基,

式中,R4表示通式[4]所示的基团或者六亚甲基四胺鎓基;R1具有与上述相同的意思,

式中,*表示键合位置;R2及R3具有与上述相同的意思。

2.一种通式[5]所示的化合物或者其盐的制造方法,

式中,R1表示任选被取代的C1-6烷基,该方法包括:

(1)

在盐酸的存在下,使通式[6]所示的化合物或者其盐与4-氨基苄腈或者其盐反应,制造通式[7]所示的化合物的盐酸盐的工序;

式中,R1表示任选被取代的C1-6烷基;X2表示离去基;X3表示离去基,

式中,R1及X2具有与上述相同的意思,

(2)

使通式[7]所示的化合物的盐酸盐与通式[8]所示的化合物反应,制造通式[1]所示的化合物或者其盐的工序;

式中,X1表示氯原子,

式中,R1及X1具有与上述相同的意思,

以及

(3)

使通式[1]所示的化合物或者其盐与通式[2]所示的化合物或者其盐或者六亚甲基四胺反应,制造通式[3]所示的化合物或者其盐之后,根据需要,对得到的化合物或者其盐实施脱保护反应或者水解反应的工序,

式中,R2表示氢原子或者氨基保护基;R3表示氢原子或者氨基保护基,或者R2及R3成为一体而表示任选被取代的邻苯二甲酰基,

式中,R4表示通式[4]所示的基团或者六亚甲基四胺鎓基;R1具有与上述相同的意思,

式中,*表示键合位置;R2及R3具有与上述相同的意思。

3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,

R1为C2-4烷基。

4.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,

R2为C1-6烷氧羰基;R3为C1-6烷氧羰基。

5.根据权利要求2所述的制造方法,其中,

X2为碘原子;X3为氯原子。

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