[发明专利]脱模处理方法、防反射膜的制造方法及脱模处理装置有效
申请号: | 201680033863.6 | 申请日: | 2016-06-07 |
公开(公告)号: | CN107635740B | 公开(公告)日: | 2019-11-19 |
发明(设计)人: | 林秀和;松村良三;山田信明 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | B29C33/58 | 分类号: | B29C33/58;B29C33/56;B29C59/04;G02B1/118 |
代理公司: | 44334 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 | 代理人: | 汪飞亚;习冬梅<国际申请>=PCT/JP |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 脱模 处理 方法 反射 制造 装置 | ||
脱模处理方法包含如下步骤:(a)准备含有具有脱模性的氟系化合物与溶剂的脱模剂、及表面具有多孔氧化铝层(14)的圆筒状或圆柱状的模具(100);(b)向模具的表面赋予脱模剂;及(c)使步骤(b)中赋予的脱模剂干燥。步骤(c)中包含对模具的表面生成在与模具的轴(100z)平行的方向流动的气流(105)的步骤、及使模具以模具的轴为中心旋转的步骤。
技术领域
本发明涉及脱模处理方法、防反射膜的制造方法及脱模处理装置。这里所说的“模具”包括用于各种加工方法(冲压或铸造)的模具,有时也称为压模。此外,也可用于印刷(包括纳米压印)。
背景技术
对于电视机或移动电话等中使用的显示装置或相机镜头等光学元件,通常会实施防反射技术,以减少表面反射从而提高光的透过量。其原因在于,例如,当像光入射到空气与玻璃的界面那样,光穿过折射率不同的介质的界面时,因菲涅耳反射等原因使光的透过量减少,能见度下降。
近年来,作为防反射技术,在基板表面形成凹凸的周期被控制在可见光的波长(λ=380nm~780nm)以下的微细的凹凸图案的方法受到关注(参照专利文献1~4)。构成体现防反射功能的凹凸图案的凸部的二维大小为10nm以上且未达500nm。
此方法利用了所谓蛾眼(Motheye)结构的原理,通过使对于入射到基板的光的折射率沿着凹凸的深度方向、从入射介质的折射率向基板的折射率连续地变化,来抑制欲防止反射的波长区域的反射。
蛾眼结构能在广泛的波长区域发挥入射角依存性小的防反射作用,除此之外,还具有可适用于多种材料,能在基板上直接形成凹凸图案等优点。其结果,能提供低成本且高性能的防反射膜(或防反射表面)。
作为蛾眼结构的制造方法,采用通过使铝阳极氧化而得的阳极氧化多孔氧化铝层的方法受到关注(专利文献2~4)。
这里,针对通过使铝阳极氧化而得的阳极氧化多孔氧化铝层进行简单说明。以往,作为能形成规则地排列的纳米级圆柱状细孔(微细的凹部)的简易方法,利用阳极氧化的多孔结构体的制造方法受到关注。若将基材浸渍于硫酸、草酸、或磷酸等酸性电解液或碱性电解液中,并将其作为阳极而施加电压,则在基材表面同时进行氧化与溶解,从而能形成其表面具有细孔的氧化膜。此圆柱状的细孔以垂直于氧化膜的方式配向,在一定的条件下(电压、电解液的种类、温度等)表现出本身组织的规则性,因此期待应用于各种功能材料。
对于在特定条件下形成的多孔氧化铝层,当从垂直于膜面的方向观察时,形成为由大致正六边形的单元以最高密度二维填充而成的排列。各个单元的中央具有细孔,细孔的排列具有周期性。单元是通过局部的皮膜的溶解及成长而形成,在被称为阻障层的细孔底部,同时进行皮膜的溶解与成长。此时,已知,单元的尺寸、即相邻的细孔的间隔(中心间距离)相当于阻障层的厚度的大致2倍,且与阳极氧化时的电压大致成正比。此外,已知细孔的直径虽然依赖于电解液的种类、浓度、温度等,但通常为单元的尺寸(从垂直于膜面的方向观察时,为单元的最长对角线的长度)的1/3左右。此种多孔氧化铝的细孔形成为在特定条件下具有高规则性(具有周期性)的排列、而且是根据条件而具有某种程度的规则性的混乱排列、或不规则(不具有周期性)的排列。
专利文献2公开了使用表面具有阳极氧化多孔氧化铝膜的压模来形成防反射膜(防反射表面)的方法。
此外,专利文献3中公开了通过反复进行铝的阳极氧化与孔径扩大处理来形成细孔径连续地变化的锥形凹部的技术。
本申请人在专利文献4中公开了利用微细凹部具有阶梯状的侧面的氧化铝层来形成防反射膜的技术。
此外,如专利文献1、2及4中的记载,除了设有蛾眼结构(微观结构)之外,还设有比蛾眼结构大的凹凸结构(宏观结构),由此能对防反射膜(防反射表面)赋予防眩(anti-glare)功能。构成发挥防眩功能的凹凸的凸部的二维大小为1μm以上且未达100μm。将专利文献1、2及4的全部公开内容沿用于本说明书中以供参考。
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