[发明专利]脱模处理方法、防反射膜的制造方法及脱模处理装置有效

专利信息
申请号: 201680033863.6 申请日: 2016-06-07
公开(公告)号: CN107635740B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 林秀和;松村良三;山田信明 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: B29C33/58 分类号: B29C33/58;B29C33/56;B29C59/04;G02B1/118
代理公司: 44334 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 代理人: 汪飞亚;习冬梅<国际申请>=PCT/JP
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 脱模 处理 方法 反射 制造 装置
【权利要求书】:

1.一种脱模处理方法,其特征在于,包含如下步骤:

(a)准备含有具有脱模性的氟系化合物与溶剂的脱模剂、及表面具有多孔氧化铝层的圆筒状或圆柱状的模具;

(b)向所述模具的所述表面赋予所述脱模剂;及

(c)干燥步骤,使所述步骤(b)中赋予的所述脱模剂干燥,且包含:将所述模具配置为,具有第1开口与第2开口的圆筒状的罩体的所述第1开口与所述第2开口之间,所述模具的轴与所述罩体的轴大致平行,且从所述模具的轴方向观察时,所述罩体的中心及所述模具的中心大致一致的状态下,若相对于所述模具的所述表面,与所述模具的轴垂直的截面中的所述模具的直径为D(m),则一边生成在与所述模具的轴平行的方向以至少0.05D(m/s)的流速流动的气流,一边使所述模具以所述模具的轴为中心以至少0.5rpm的旋转速度旋转的步骤。

2.如权利要求1所述的脱模处理方法,其特征在于,在所述步骤(c)中,所述模具的旋转速度为10rpm以下。

3.如权利要求1或2所述的脱模处理方法,其特征在于,在所述步骤(c)中,所述气流的流速为0.52D(m/s)以下。

4.如权利要求1或2所述的脱模处理方法,其特征在于,在所述步骤(c)中,生成所述气流的步骤包含供给含有溶剂的气体的步骤,该溶剂可使所述脱模剂中所含的所述氟系化合物溶解。

5.如权利要求4所述的脱模处理方法,其特征在于,含有所述溶剂的气体中,含有与所述脱模剂中所含的所述溶剂相同的溶剂。

6.如权利要求1或2所述的脱模处理方法,其特征在于,所述多孔氧化铝层的表面具有反转的蛾眼结构,该反转的蛾眼结构具有从表面的法线方向观察时的二维大小为50nm以上且未达500nm的多个凹部。

7.一种防反射膜的制造方法,其特征在于,包含如下步骤:

准备已通过权利要求1至6中任一项所述的脱模处理方法实施脱模处理的模具;

准备被加工物;

在向所述模具与所述被加工物的表面之间赋予光硬化树脂的状态下,通过对所述光硬化树脂照射光而使所述光硬化树脂硬化;及

将由硬化后的光硬化树脂形成的防反射膜从所述模具剥离。

8.一种脱模处理装置,其特征在于,具有:

圆筒状的罩体,具有第1开口与第2开口,表面具有多孔氧化铝层的圆筒状或圆柱状的模具以从所述罩体的轴方向观察时,与所述罩体的中心以及所述模具的中心大致一致的方式配置在所述罩体的所述第1开口与所述第2开口之间;及

旋转支撑结构体,将所述模具以与所述罩体的轴大致平行、可绕所述模具的轴旋转、并使所述模具以至少0.5rpm的旋转速度旋转的方式构成;

气流供给装置,以从所述第1开口供给与所述罩体的所述轴大致平行的气流、即当所述模具的轴垂直的截面中的所述模具的直径为D(m)时,具有至少0.05D(m/s)的流速的气流的方式构成。

9.如权利要求8所述的脱模处理装置,其特征在于,所述气流供给装置具有设在所述第1开口的过滤器。

10.如权利要求8或9所述的脱模处理装置,其特征在于,所述旋转支撑结构体具有马达、及与所述马达的驱动轴结合的台座;

所述台座的至少一部分位于所述第1开口与所述第2开口之间。

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