[发明专利]通用的RAFT剂

权利要求书

1.式(I)的RAFT剂

其中R_a选自Cl、Br、I、F、CF₃、CN、CO₂R、CONR₂、OMe、NO₂；R选自H、任选地被取代的烷基以及任选地被取代的芳基；并且R_b选自：

2.根据权利要求1所述的RAFT剂，其中R_a选自Cl、Br、I以及F。

3.式(II)或式(III)的聚合物

其中R_a选自Cl、Br、I、F、CF₃、CN、CO₂R、CONR₂、OMe、NO₂；R选自H、任选地被取代的烷基以及任选地被取代的芳基；并且R_b选自：

其中式(II)中的POL是包含(PMAM)_x-(PLAM)_y^*的聚合物链，式(III)中的POL是包含(PLAM)_y-(PMAM)_x^*的聚合物链，MAMi和PMAM各自独立地由衍生自一种或更多种式(IV)的烯属不饱和单体的一个或更多个RAFT反应单体残基单元组成，LAMi和PLAM各自独立地由衍生自一种或更多种选自式(V)的烯属不饱和单体的一个或更多个RAFT反应单体残基单元组成，w、x和y各自独立地是0或1，条件是x或y中的至少一个是1，且*表示(i)当存在MAMi或LAMi时共价偶联到MAMi或LAMi的点、或(ii)当不存在MAMi或LAMi时共价偶联到R_b的点；

其中W是H或连同V形成内酯、酸酐或酰亚胺环；U选自H、C₁-C₄烷基、CO₂R¹以及卤素；V连同W形成内酯、酸酐或酰亚胺环或选自任选地被取代的芳基、烯基、CO₂H、CO₂R¹、COR¹、CN、CONH₂、CONHR¹、CONR¹₂、PO(OR¹)₂、PO(R¹)₂、PO(OH)R¹、PO(OH)₂、SO(OR¹)、SO₂(OR¹)、SOR¹以及SO₂R¹；并且其中所述R¹或每个R¹独立地选自任选地被取代的烷基、任选地被取代的烯基、任选地被取代的炔基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂芳基、任选地被取代的碳环基、任选地被取代的杂环基、任选地被取代的芳基烷基、任选地被取代的杂芳基烷基、任选地被取代的烷基芳基、任选地被取代的烷基杂芳基以及任选地被取代的聚合物链；

其中U¹选自H、C₁-C₄烷基或卤素；V¹是卤素或具有形式O-G，其中G选自-C(O)R¹和-R¹，或V¹具有形式NGG^a，其中G如上文所定义并且G^a选自H和R¹，G和G^a连同N形成杂环，或V¹具有形式CH₂G^b，其中G^b选自H、R¹、OH、OR¹、NR¹₂、PR¹₂、P(O)R¹₂、P(OR¹)₂、SR¹、SOR¹以及SO₂R¹；并且其中所述R¹或每个R¹独立地选自任选地被取代的烷基、任选地被取代的烯基、任选地被取代的炔基、任选地被取代的芳基、任选地被取代的杂芳基、任选地被取代的碳环基、任选地被取代的杂环基、任选地被取代的芳基烷基、任选地被取代的杂芳基烷基、任选地被取代的烷基芳基、任选地被取代的烷基杂芳基以及任选地被取代的聚合物链。