[发明专利]废液处理方法及废液处理装置

权利要求书

1.一种废液处理方法，其是将在半导体基板的处理中使用过的药液所包含的金属去除的废液处理方法，其中，包括：

回收工序，将在半导体基板的处理中使用过的药液回收；

去除工序，将多元酸混合在利用所述回收工序回收的药液中，将该药液所包含的金属纳入多元酸中，从而从该药液中去除金属；以及

沉淀工序，将抗衡阳离子投入到纳入有金属的多元酸与所述药液的混合液中，使该多元酸与该抗衡阳离子的盐沉淀，

所述多元酸是具有缺失部位的缺失型络合物，

通过使利用所述回收工序回收的药液与多元酸在pH值为2～3的范围内反应，将该药液中包含的金属纳入多元酸的缺失部位。

2.如权利要求1所述的废液处理方法，其中，

还包括：再利用工序，将从所述混合液中去除利用所述沉淀工序生成的沉淀物而得到的药液在半导体基板的处理中再利用。

3.一种废液处理装置，其是将在半导体基板的处理中使用过的药液所包含的金属去除的废液处理装置，其中，具备：

基板处理部，向半导体基板供给药液，进行基板处理；

储存部，回收并储存从所述基板处理部排出的已使用的药液；

多元酸供给部，向储存有已使用的药液的所述储存部供给多元酸，

pH调整部，将储存于所述储存部的药液与多元酸的混合液的pH值调整为2～3；以及

阳离子投入部，将抗衡阳离子投入到储存于所述储存部的药液与多元酸的混合液中，

所述多元酸是具有缺失部位的缺失型络合物。

4.如权利要求3所述的废液处理装置，其中，

还具备：回流部，使从所述混合液中将投入了抗衡阳离子而生成的沉淀物去除而得到的药液回流至所述基板处理部。