[发明专利]检查系统有效
申请号: | 201680018972.0 | 申请日: | 2016-03-02 |
公开(公告)号: | CN107408520B | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 卢茨·瑞布斯道克 | 申请(专利权)人: | 卢茨·瑞布斯道克 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/67 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
地址: | 德国拉尔*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检查 系统 | ||
本发明涉及适用于确定晶片或掩模容器或至少部分的晶片或掩模容器的状态和/或内容物的检查系统,其包括检测设备或多个检测设备(102、104、152、154、156、158、160、164),检测设备或多个检测设备适于从晶片或掩模容器或部分的晶片或掩模容器的表面和/或内部接收表示晶片或掩模容器或部分的晶片或掩模容器的状态和/或内容物的检测数据。
技术领域
本申请涉及适用于确定晶片或掩模容器的状态和/或内容物的检查系统,并且还涉及用于确定该容器的状态和/或内容物的检查室。
虽然本申请涉及前开式晶圆盒(FOUP)作为优选的示例,然而本发明可应用于任何类型的晶片或掩模容器。作为其它示例,提到了前开式传送盒(FOSB)。
背景技术
在半导体晶片加工中,机器人机构连续地布置、组织和处理晶片和晶片容器,诸如前开式晶圆盒(FOUP)。FOUP可能在该过程中损坏(例如划痕、断裂、变形等)。由此存在对这种损坏和/或缺陷有效地检查FOUP的需要。
诸如FOUP的晶片或掩模容器也容易受到污染,因此例如晶片制造过程变得不那么有效。
发明内容物
根据本发明建议了包括权利要求1的特征的检查系统以及包括权利要求19的特征的检查室。
在权利要求书中指出的是,根据本发明的系统包括“检测设备或多个检测设备”。这特别对应于如在说明书中所使用的措辞“至少一个检测设备”。
根据本发明,至少一个检测设备适于从晶片或掩模容器或部分的该容器的表面和/或内部接收表示该容器或部分的该容器的状态和/或内容物的检测数据。在这部分内容中,术语“内部”尤其是指壁或盖的内部区域,即在这种壁或盖的表面下面的区域。
本发明的优选实施方式是从属权利要求的主题。
根据第一优选实施方式,晶片或掩模容器是前开式晶圆盒(FOUP)。为了在晶片加工期间提供对晶片的有效处理,最重要的是FOUP处于无瑕疵状态,以避免对晶片任何类型的错误处理或污染。
根据本发明的第一优选实施方式,检测设备包括至少一个相机,检测数据作为图像数据被提供。相机是用于从容器的表面接收检测数据的优选的检测设备。
有利地,提供至少两个相机,其中至少一个适于提供可变视野。例如,可以提供适于提供容器的完整表面或侧面的全景视图的第一相机,以及用于提供可显着地小于第一相机的可变视野的第二相机。通过这种布置,可以在检测详细特征的同时检测容器的一般特征。可以在变焦系统内提供相机以改变其视野的尺寸。
优选地,至少一个检测设备与定位系统联接。如此与定位系统的联接促进了基于检测数据对容器的尺寸或特征的实际测量量。
优选地,将至少一个检测设备,特别是相机,设置成联接至线性引导件和/或联接至旋转和/或枢转装置。通过这样的联接,可便利地对检测设备的视场,特别是相机的视野,进行调整,例如在提供一般的视场和特定的视场之间进行交替,并且也为了对容器表面的感兴趣区域进行扫描。
便利地,检测设备适于产生容器(特别是FOUP)的表面上的感兴趣区域的数字图像,检查系统还包括数据处理单元,该数据处理单元适于通过与数据处理单元的存储器和处理器关联的算法来处理所产生的数字图像,以识别容器的状态和/或内容物。在这部分内容中,特别是可以确定FOUP的损坏,例如FOUP(诸如垫圈、索环或操作凸缘)的断裂或损坏的特征,和诸如失真的缺陷,例如由于暴露于热或其它外部影响。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造