[发明专利]研磨料的回收方法

说明书

技术领域

本发明涉及研磨料的回收方法，更详细地说，涉及通过使被研磨物成分溶解在溶剂中而能够回收高纯度的研磨料的研磨料的回收方法。

背景技术

以往，作为在精加工工序中对光学玻璃、石英晶体振荡器进行精密研磨的研磨料，使用以金刚石、氟化硼、碳化硅、氧化铝、氧化铝－氧化锆、氧化锆、氧化铈等为代表的具有高硬度的微粒。

由于这些研磨料是硬度高的微粒，因此在将光学透镜、半导体硅基板、晶体硅片以及液晶显示屏的玻璃板等研磨为镜面的研磨中作为电子部品相关的光学研磨料大量使用。

作为研磨方法，采用在使研磨料浆料介于研磨片等研磨部件与被研磨物之间的状态下进行研磨的CMP(Chemical Mechanical Polishing；化学机械研磨)。

如果研磨料浆料中被研磨物含有量由于研磨而变多，则加工效率下降，因此将这些研磨料浆料废弃。

一般来说，由于在研磨料的主要构成元素中存在从日本国内不能得到的矿物中提取的元素，因此其一部分是依赖进口的资源，并且是材料价格高且使用量大的重要资源，是强烈要求对其进行再利用的资源之一。

在对研磨料进行回收中极为重要的一点是将来自被研磨物的成分从回收的浆料中除去，例如在专利文献1和专利文献2中公开了为使来自被研磨物的成分溶解而添加分散剂、电解质的方法。

然而，在这些方法中，存在异物容易混入回收的浆料中而导致纯度降低的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：(日本)特开2003-205460号公报

专利文献2：(日本)特开平6-254764号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明是鉴于上述问题而做出的，所要解决的技术问题在于，提供一种能够通过简单的方法从含有使用后的研磨料的回收浆料中对高纯度的研磨料进行回收的研磨料的回收方法。

用于解决技术问题的技术方案

为了解决上述技术问题，本发明发明人在对上述问题的原因等进行研讨的过程中发现以下方法而得到本发明。即，在从对被研磨物进行了研磨的研磨料浆料中回收研磨料，该被研磨物包含硅作为主要成分的研磨料的回收方法中，在不使用pH调整剂的条件下，至少向所述研磨料浆料加入溶剂，使研磨料浆料所含有的被研磨物粒子溶解，对研磨料浆料进行过滤而将研磨料回收，根据该研磨料的回收方法，能够以简单的方法从含有使用后的研磨料的回收浆料中回收高纯度的研磨料。

即，本发明的上述问题能够通过以下技术方案解决。

1.一种研磨料的回收方法，从对被研磨物进行了研磨的研磨料浆料回收研磨料，该被研磨物包含硅作为主要成分，该研磨料的回收方法的特征在于，

在不使用pH调整剂的条件下，至少经过以下工序1至工序3将被研磨物成分除去，对研磨料进行回收，

工序1是向所述研磨料浆料加入溶剂的工序，

工序2是使所述研磨料浆料所含有的所述被研磨物成分中的被研磨物粒子溶解的工序，

工序3是对所述研磨料浆料进行过滤而回收研磨料的工序。

2.根据第一项所述的研磨料的回收方法，其特征在于，

根据所述研磨料浆料所含有的被研磨物成分的浓度，对在所述工序1和所述工序2中添加的溶剂量进行调整。

3.根据第二项所述的研磨料的回收方法，其特征在于，

向所述研磨料浆料加入所述溶剂而进行调整，以使所述被研磨物成分的浓度达到所述被研磨物的饱和溶解度的1.8倍以下。

4.根据第一项至第三项中任一项所述的研磨料的回收方法，其特征在于，

在所述工序2中，向所述研磨料浆料加入所述溶剂后，进行加温。

5.根据第四项所述的研磨料的回收方法，其特征在于，

以所述研磨料浆料的温度达到40～90℃的范围内的方式进行加温。

发明的效果

根据本发明的上述技术方案，能够提供一种研磨料的回收方法，能够通过简单的方法从含有使用后的研磨料的回收浆料中回收高纯度的研磨料。

在本发明中虽然没有明确能够发挥上述效果的理由，但推测如下。

本发明的研磨料的回收方法通过向包含使用后的研磨料的回收浆料中加入溶剂，能够促进处于凝聚状态的被研磨物成分中被研磨物粒子的溶解，从而能够通过不使用pH调整剂的简单的方法来提高回收时的纯度。

附图说明

图1是表示从研磨工序到将使用后的研磨料浆料排出的流程的一个例子的示意图。