[发明专利]薄膜形成装置

权利要求书

1.一种薄膜形成装置，其特征在于，该薄膜形成装置具有：

成膜室；

旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有配置掩模与成膜对象物的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；

主拍摄装置，其对配置在位于对准场所的上述基板支架上的上述掩模以及与上述掩模相面对的上述成膜对象物进行拍摄；

控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述掩模与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述掩模；

成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及

成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，

借助上述旋转装置的旋转，进行了对位的上述掩模与上述成膜对象物从上述对准场所被移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔与上述掩模的窗部而到达上述成膜对象物，形成薄膜，

设有对位于上述成膜场所的上述掩模与上述成膜对象物进行拍摄的辅助拍摄装置，

根据上述辅助拍摄装置所拍摄到的结果，求出上述成膜对象物与上述掩模之间的第二位置误差。

2.如权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，

具有将上述掩模与配置在上述掩模上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。

3.如权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，

上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转，与上述掩模一起返回到上述对准场所。

4.如权利要求2所述的薄膜形成装置，其特征在于，

上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转，与上述掩模一起返回到上述对准场所。

5.一种薄膜形成装置，其特征在于，该薄膜形成装置具有：

成膜室；

旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有供成膜对象物配置的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；

主拍摄装置，其对位于对准场所的上述基板支架和与上述基板支架相面对的成膜对象物进行拍摄；

控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述基板支架与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述基板支架；

成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及

成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，

借助上述旋转装置的旋转，进行了对位的上述基板支架与上述成膜对象物从上述对准场所被移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔而到达上述成膜对象物，形成薄膜，

设有对位于上述成膜场所的上述基板支架与上述成膜对象物进行拍摄的辅助拍摄装置，

根据上述辅助拍摄装置所拍摄到的结果，求出上述成膜对象物与上述基板支架之间的第二位置误差。

6.如权利要求5所述的薄膜形成装置，其特征在于，

具有将上述基板支架与配置在上述基板支架上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。

7.如权利要求5所述的薄膜形成装置，其特征在于，

上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转返回到上述对准场所。