[发明专利]借助印刷技术制作含有肖特基二极管器件的方法有效

专利信息
申请号: 201680014452.2 申请日: 2016-03-23
公开(公告)号: CN107438893B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 尼尔斯·贝森;罗兰·斯切尔;马克·霍夫曼;托马斯·卡西尔;丹尼尔·尔尼 申请(专利权)人: 杜伊斯堡-埃森大学
主分类号: H01L21/329 分类号: H01L21/329;H01L21/34;H01L29/06;H01L29/872;H01L29/20
代理公司: 北京国林贸知识产权代理有限公司 11001 代理人: 李桂玲
地址: 德国埃森*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 借助 印刷技术 制作 含有 肖特基 二极管 器件 方法
【权利要求书】:

1.借助印刷技术制作含有肖特基二极管器件的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

第一步,将半导体纳米颗粒粉体(HND)沉积(100)在第一电极(E1)上,所述第一电极(E1)设置在衬底(S)上,

第二步,使用激光(L)对沉积的所述半导体纳米颗粒粉体(HND)照射(200)形成具有底部和圆弧尖端的圆锥体(C1、C2),其中,所述圆锥体的底部与所述第一电极(E1)结合连接,

第三步,将形成的所述圆锥体(C1、C2)嵌入(300)在电绝缘聚合物基体(P)中,

第四步,施加(500)第二电极(E2)与所述圆锥体(C1、C2)的圆弧尖端结合;

其中的沉积是刮片、丝网方法、喷墨印刷、旋转涂层或者将粉体倾倒中的一种。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:在所述施加(500)第二电极(E2)之前,首先采用控制蚀刻(400)的方法将所述圆锥体(C1、C2)的圆弧尖端暴露出来。

3.一种含有肖特基二极管的器件,其特征在于,所述器件是由权利要求1所述方法制作含有肖特基二极管的器件,所述器件包括:

至少一个具有底部和圆弧尖端的圆锥体(C1;C2),所述圆锥体(C1;C2)是半导体材料,

其中,所述圆锥体(C1;C2)嵌入在电绝缘聚合物基体(P)中,所述圆锥体(C1;C2)的底部与第一电极(E1)结合连接,所述圆锥体(C1;C2)的圆弧尖端与第二电极(E2)结合连接,

其中,如果所述第一电极(E1)和所述第二电极(E2)中任意一个与所述圆锥体(C1;C2)一起作为肖特基结(SC),则另一电极(E2;E1)将作为电阻结(OC)。

4.根据权利要求3所述的器件,其特征在于:所述半导体是p型掺杂半导体。

5.根据权利要求3所述的器件,其特征在于:所述半导体是n型掺杂半导体。

6.根据权利要求3所述的器件,其特征在于:所述半导体是无掺杂半导体。

7.根据权利要求3至6中任一项所述的器件,其特征在于:所述半导体是包含Si或Se或Ge或者Ⅲ-Ⅴ族化合物的半导体。

8.根据权利要求7所述的器件,其特征在于:所述聚合物基体(P)是丙烯酸酯、聚氨酯、聚硅酮或者环氧树脂中的至少一个,或者是聚酰亚胺、聚碳酸酯、和/或聚丙烯酸酯。

9.根据权利要求3所述的器件,其特征在于:方法中所述衬底(S)是柔性衬底。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杜伊斯堡-埃森大学,未经杜伊斯堡-埃森大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680014452.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top