[发明专利]水溶性雷帕霉素类衍生物有效

专利信息
申请号: 201680006268.3 申请日: 2016-11-09
公开(公告)号: CN107949566B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 汪海波;况洪福;张伟;蔡正江;朱天民;郑晓鹤;吴忠伟;杨志清 申请(专利权)人: 浙江海正药业股份有限公司
主分类号: C07K5/037 分类号: C07K5/037;A61K31/436;A61P35/00;A61P37/06
代理公司: 北京信诺创成知识产权代理有限公司 11728 代理人: 陈悦军
地址: 318000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 水溶性 霉素 衍生物
【权利要求书】:

1.式I所示的化合物或其在药学上可接受的盐:

其中

R1为H或R3

R2为H或R4-R5

但R1和R2不同时为H;

R3为R4-R5、-CH2CH2O-R4-R5

R4为羰基C2-C6亚烯基或羰基C2-C6亚炔基;

n为小于或等于6的整数,即,n为1,2,3,4,5或6;

m为小于或等于6的整数,即,m为1,2,3,4,5或6;

R5为如式II所示的巯基(-SH)脱氢后形成的谷胱甘肽基:

R6为C1-C6亚烷基、C2-C6亚烯基或C2-C6亚炔基。

2.根据权利要求1所述的化合物,其中,R3为R4-R5或-CH2CH2O-R4-R5,其中R4和R5如权利要求1所定义。

3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中,R4

4.根据权利要求1所述的化合物,其中,R1为-CH2CH2O-R4-R5

5.根据权利要求4所述的化合物,其中,

R4

n为小于或等于6的整数;

R5为式II所示的巯基(-SH)脱氢后形成的谷胱甘肽基:

6.根据权利要求4或5所述的化合物,其中,R2为H。

7.根据权利要求1所述的化合物,其中所述的式I化合物选自:

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