[发明专利]微多孔膜及其制造方法

权利要求书

1.一种微多孔膜，其特征在于：包含熔体质量流动速率(MFR，以依据日本工业标准K6758(230℃、21.18N)的条件来测定)为1.0g/10min以下的聚丙烯系聚合体，且空孔率为50％以上。

2.根据权利要求1所述的微多孔膜，其中空孔率在50％～60％的范围内。

3.根据权利要求1或2所述的微多孔膜，其中通气度为200sec/100mL以上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的微多孔膜，其中通气度在200sec/100mL～300sec/100mL的范围内。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的微多孔膜，其中聚丙烯系聚合体为丙烯主体的聚合体，其熔点在150℃～170℃的范围内，熔体质量流动速率(MFR，以依据日本工业标准K6758(230℃、21.18N)的条件来测定)为1.0g/10min以下，并且所述聚合体能够任意地包含选自乙烯、碳数4～8的α-烯烃中的至少一种。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的微多孔膜，其用于蓄电装置的隔片。

7.根据权利要求6所述的微多孔膜，其中蓄电装置为锂离子电池。

8.根据权利要求6所述的微多孔膜，其中蓄电装置为电容器。

9.一种蓄电装置，其特征在于：包括根据权利要求6所述的微多孔膜。

10.一种锂离子电池，其特征在于：包括根据权利要求7所述的微多孔膜。

11.一种电容器，其特征在于：包括根据权利要求8所述的微多孔膜。

12.一种根据权利要求1至11中任一项所述的微多孔膜的制造方法，其特征在于：包含以下的步骤：

(步骤1)将依据日本工业标准K6758且在230℃、荷重21.18N下测定的熔体质量流动速率(MFR)为1.0g/10min以下的聚丙烯系聚合体挤出成型而制成原坯膜的步骤；

(步骤2)对步骤1中获得的原坯膜进行热处理的步骤；

(步骤3)将步骤2中获得的热处理后的原坯膜在-5℃～45℃下，在长度方向上延伸至1.0倍～1.1倍的步骤；

(步骤4)在较聚丙烯系聚合体的熔点低5℃～65℃的温度下，将结束了步骤3的延伸膜在长度方向上延伸至1.5倍～4.0倍的步骤；以及

(步骤5)在加热下，以长度成为0.7倍～1.0倍的方式使步骤4中获得的温延伸后的膜松弛的步骤。