[发明专利]压力控制装置

说明书

提供一种压力控制装置，即便是在相对于气体的控制流量，腔室的容积大的情况，或者是流量控制阀与腔室之间的配管长的情况下，也可以把腔室内的压力保持为恒定。压力控制装置1，把腔室3内的压力保持在设定压力，具备：频率特性校正电路20，把表示经由压力传感器4所检测出的腔室3内的压力之压力信号，校正为接近表示设定压力之设定压力信号；比较电路21，对校正过的前述压力信号、与前述设定压力信号进行比较；以及，阀驱动电路22，根据由比较单元21所致之比较结果，控制流量控制阀14的开闭。频率特性校正电路20为滤波电路，其频率特性在指定的频率具有峰值，把压力信号校正为提升压力信号的指定的频率的成分。

技术领域

本发明涉及用于半导体制造装置等的压力控制装置。

背景技术

以往，提案有用于把腔室内的压力保持为恒定的压力控制装置(例如，参阅专利文献1)。专利文献1揭示的压力控制装置，根据利用压力感测器所检测出的腔室内的压力及设定压力，开启、关闭气体的供给，把腔室内的压力控制为恒定。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平3-291706号专利公报

发明内容

(一)要解决的技术问题

可是，因为设备的状况，相对于气体的控制流量，会有腔室的容积变大、或是压力控制装置与腔室之间的配管变长的情况。在该情况下，进行专利文献1揭示的压力控制的话，从打开流量控制阀让气体流动开始一直到腔室内的压力上升为止，或者是从关闭流量控制阀一直到压力下降为止，会产生延迟时间。为此，腔室内的压力上下变动，无法把腔室内的压力保持为恒定。

在此，本发明其目的在于提供一种压力控制装置，即便是在相对于气体的控制流量，腔室的容积大的情况，或者是流量控制阀与腔室之间的配管长的情况下，也可以把腔室内的压力保持为恒定。

(二)技术方案

为了解决上述目的，本发明之其中一样态的压力控制装置，把被压力控制对象内保持在设定压力，具备：校正单元，把表示经由压力传感器所检测出的被压力控制对象内的压力之压力信号，校正为接近表示前述设定压力之设定压力信号；比较单元，对校正过的前述压力信号、与前述设定压力信号进行比较；以及阀驱动单元，根据由前述比较单元所致之比较结果，控制流量控制阀的开闭；前述校正单元为滤波电路，其频率特性在指定的频率具有峰值，把前述压力信号校正为提升前述压力信号的前述指定的频率的成分。

而且，也可以是，前述指定的频率，系根据前述配管的气体的流量与前述腔室的容积之关系、及/或是前述腔室与前述压力控制装置之间的配管的长度，而被决定者。

而且，也可以是，在前述压力信号表示比前述设定压力信号大的值，且变化为减小时，前述压力信号，利用前述校正单元，校正为其值变小。

而且，也可以是，在前述压力信号表示比前述设定压力信号小的值，且变化为增大时，前述压力信号，利用前述校正单元，校正为其值变大。

(三)有益效果

根据本发明，可以提供一种压力控制装置，即便是在相对于气体的控制流量，腔室的容积大的情况，或者是流量控制阀与腔室之间的配管长的情况下，也可以把腔室内的压力保持为恒定。

附图说明

图1表示具备本发明实施方式的压力控制装置之压力控制系统的构成图。

图2表示压力控制装置的构成图。

图3表示流量控制阀及控制电路的方块图。

图4为表示压力控制系统的控制开始时的检测压力信号、校正压力信号、压力设定信号、及阀驱动信号的状态之图。