[实用新型]一种物理化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 201621495631.6 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN206289293U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 刘金;任列香;薛金辉;武国兴 | 申请（专利权）人： | 吕梁学院 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C16/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 033001 山西省*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 物理化学 沉积 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种物理化学气相沉积装置，包括真空沉积室、通气装置和加热装置，其特征在于：所述加热装置由上加热器和下加热器构成，所述上加热器位于所述真空沉积室顶部，所述下加热器位于所述上加热器正下方，所述下加热器与所述真空沉积室底表面之间设有一调节升降装置，所述上加热器下表面上设有一衬底基片夹，所述上加热器由上加热元件和上温控器构成，所述下加热器由下加热元件和下温控器构成，所述上加热元件采用钼金属材料制成，所述上加热元件下表面为抛光平面结构，所述下加热元件采用石墨材料制成，所述下加热元件上表面中部设有一向下凹陷的加料槽，所述加料槽底部采用圆形平底结构，所述加料槽槽壁采用圆锥壁结构。
2.根据权利要求1所述的一种物理化学气相沉积装置，其特征在于：所述调节升降装置包括一基座法兰，所述基座法兰与所述下加热器下部固定安装，所述基座法兰下部连接设有一升降丝杠，所述升降丝杆底部贯穿所述真空沉积室并连接一驱动涡轮，所述驱动涡轮连接一转动手柄，所述驱动涡轮外表面上刻有标尺。
3.根据权利要求2所述的一种物理化学气相沉积装置，其特征在于：所述升降丝杠与所述真空沉积室之间设有一密封壳。
4.根据权利要求1所述的一种物理化学气相沉积装置，其特征在于：所述衬底基片夹采用钼片夹。
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